[发明专利]一种规避遮挡的三维模型自动纹理映射方法、系统及终端有效

专利信息
申请号: 202210185331.1 申请日: 2022-02-28
公开(公告)号: CN114255314B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 李晓明;刘浩;王伟玺;谢林甫;汤圣君;李游;郭仁忠 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G06T15/04 分类号: G06T15/04;G06T7/33;G06T5/00
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 陈专
地址: 518060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 规避 遮挡 三维 模型 自动 纹理 映射 方法 系统 终端
【权利要求书】:

1.一种规避遮挡的三维模型自动纹理映射方法,其特征在于,所述规避遮挡的三维模型自动纹理映射方法包括:

输入原始点云数据,对所述原始点云数据进行处理后得到体素分辨率,提取包含点云数据的体素,并生成体素的集合;

基于物体实际影像、空三文件、三维模型和生成体素的集合判断遮挡和影像筛选,并建立影像和面片的对应关系;

所述基于物体实际影像、空三文件、三维模型和生成体素的集合判断遮挡和影像筛选,并建立影像和面片的对应关系,具体包括:

获取物体实际影像、空三文件和三维模型,对物体实际影像对应的空三文件进行解析,得到每张影像I对应的投影中心I0;

将每张影像I的投影中心I0与待映射的三维模型中三角面片F的顶点F1(XF1,YF1,ZF1)、F2(XF2,YF2,ZF2)、F3(XF3,YF3,ZF3)分别进行连接,得到两点间反映相对空间位置关系的三条线段LOF1、LOF2和LOF3;

基于生成体素的集合对三条线段的位置关系进行深度冲突检查,依次计算三条线段与每一个体素是否相交,并记录下单条线段LOF1与所有体素的交点个数M,以及交点的坐标位置S(Xs,Ys,Zs);

计算交点S(Xs,Ys,Zs)与面片顶点F1(XF1,YF1,ZF1)在XYZ三个方向上的距离,分别为△x1= XF1- Xs 、△y1= YF1-Ys、△z1= ZF1-Zs;

将三个方向的距离差与体素大小进行比较,若△x1<X、△y1<Y且△z1<Z,则交点S与面片顶点F1在同一体素中,不存在遮挡,否则交点S与面片顶点F1不在同一体素中,存在遮挡;

当M个交点均计算完成后,只要存在一个交点超出范围,则存在遮挡,否则不存在遮挡;

依次计算三条线段LOF1、LOF2、LOF3与每一个体素是否存在遮挡,当都不再存在遮挡时,则代表影像I与面片的三个顶点F1、F2 、F3都不存在遮挡,记录下当前影像与当前面片,建立对应关系;

选取相同影像的面片合并成纹理面片,基于无遮挡的纹理图像进行纹理映射,并输出纹理映射过后的模型及纹理图;

所述选取相同影像的面片合并成纹理面片,基于无遮挡的纹理图像进行纹理映射,并输出纹理映射过后的模型及纹理图,具体包括:

基于马尔科夫随机场对能量函数E(M)= EQ(M)+ ES(M)进行优化,其中,数据项EQ(M)用于判断纹理视图的质量,平滑项ES(M)用于平滑纹理块之间的接缝;

对判断纹理视图的质量的数据项EQ(M)进行优化,优化后的数据项表达式为EQ(M)=EData+ECover,其中,EData表示通过影像法向量角度和梯度信息判断纹理视图的质量,ECover表示遮挡函数;

通过影像与面片法向量角度及梯度信息计算后给EData赋值,通过无遮挡影像与面片的对应关系给ECover赋值,获取每张影像优化后的EQ(M)值,选取EQ(M)值最小时所对应的影像;

若相邻三角面片EQ(M)选取的影像为同一影像,则将相同影像的面片合并成一个纹理面片;

对三维模型上所有的纹理面片进行接缝处的匀光匀色处理;

当完成整体模型的纹理映射后,输出纹理映射过后的模型及纹理图。

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