[发明专利]一种套刻标记在审
| 申请号： | 202210185959.1 | 申请日： | 2022-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN114578662A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 吴杰;邹建祥;娄迪 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20;H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 王关根 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 标记 | ||
【权利要求书】：
1.一种套刻标记，其特征在于，所述套刻标记形成在半导体衬底中，包括：
第一测量标记，形成在第一层中；
第二测量标记，形成在第二层中，所述第二层形成在所述第一层之后的同一位置；以及
辅助图形，均匀分布在所述第一测量标记的外侧周围，与所述第一测量标记位于同一层。
2.根据权利要求1所述的套刻标记，其特征在于，所述第一测量标记的图案为方环形。
3.根据权利要求1所述的套刻标记，其特征在于，所述第二测量标记的图案为方块形。
4.根据权利要求2或3所述的套刻标记，其特征在于，所述第一测量标记的方环形比所述第二测量标记的方块形的面积大。
5.根据权利要求1所述的套刻标记，其特征在于，所述辅助图形由密集对称分布的直线型图形构成。
6.根据权利要求5所述的套刻标记，其特征在于，所述辅助图形包括四组直线型图形，分别为两组X方向的直线型图形和两组Y方向的直线型图形。
7.根据权利要求6所述的套刻标记，其特征在于，所述每组直线型图形包括多个分布均匀平行的直线型图形。
8.根据权利要求7所述的套刻标记，其特征在于，所述Y方向的直线型图形的长度大于所述X方向的直线型图形的长度。
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