[发明专利]聚集诱导发光材料及其制备方法与应用

说明书

本申请涉及材料合成技术领域，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，本申请提供的聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，所述代谢基团包括含有第一不饱和键的D‑丙氨酸衍生物，所述聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4‑(2‑(4‑二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物，实现对细菌进行快速标记和原位清除，具有检测快速、广谱抗菌、降低耐药等特点，在细菌尤其耐药菌临床治疗中应用前景广阔。

技术领域

本申请属于材料合成技术领域，尤其涉及一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用。

背景技术

青霉素被发现以前，因感染致病菌致死的人群不计其数。1928年，英国科学家Fleming在实验研究中最早发现青霉素，1943年青霉素实现量产，为感染性疾病的治疗带来了曙光。随着链霉素、万古霉素等更多种类抗生素被发现和量产，抗生素滥用现象日益严重，临床长期、广泛和超量的抗生素滥用导致了耐药细菌株及多重耐药细菌株(“超级细菌”)的出现。据统计，多重耐药菌株的医院院内感染率高达8％。发生院内耐药菌感染的多为抵抗力较弱人群，而重症加强护理病房(ICU)多重耐药菌株感染是患者的最大死亡威胁。此类人群一旦感染耐药细菌，治疗预后不容乐观。多重耐药菌株的出现对传统抗生素治疗方法带来了巨大挑战，亟需开发一种不易诱发细菌多药耐药的光广谱抗菌药物或制剂，用于临床致病菌(尤其是多重耐药菌)的杀伤与细菌感染治疗。

发明内容

本申请的目的在于提供一种聚集诱导发光材料及其制备方法与应用，旨在解决现有技术中材料无法对细菌进行快速标记并迅速杀菌的问题。

为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种聚集诱导发光材料，聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，代谢基团包括含有第一不饱和键的D-丙氨酸衍生物，聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4-(2-(4-二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物。

第二方面，本申请提供一种聚集诱导发光材料的制备方法，包括如下步骤：

提供含有第一不饱和键的D-丙氨酸衍生物和含有第二不饱和键的4-(2-(4-二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物；

将所述含有第一不饱和键的D-丙氨酸衍生物和所述含有第二不饱和键的4-(2-(4-二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物进行混合处理并进行点击化学反应，得到聚集诱导发光材料。

第三方面，本申请提供聚集诱导发光材料应用于标记和杀灭的细菌，其中，所述细菌包括细胞壁含有肽聚糖成分的革兰氏阳性菌和革兰氏阴性菌中的至少一种。

第四方面，本申请提供一种杀菌方法，采用聚集诱导发光材料进行杀菌，杀菌方法包括以下步骤：

提供待杀菌样品，

将待杀菌样品与聚集诱导发光材料混合进行孵育，得到共混液；

将共混液进行激光照射处理，得到杀菌后的样品。

本申请第一方面提供的聚集诱导发光材料，聚集诱导发光材料包括采用化学键连接的代谢基团和聚集诱导发光基团，其中，提供的代谢基团包括含有第一不饱和键的D-丙氨酸衍生物，其能够特异性结合并大量聚集在细菌细胞壁，实现对细菌进行准定定位、高效标记；提供的聚集诱导发光基团包括含有第二不饱和键的4-(2-(4-二苯甲胺苯基乙烯)吡啶溴盐衍生物，通过代谢基团进行定位标记后，再进行激光照射处理，使聚集诱导发光基团通过激光照射处理产生活性氧基团，实现在定位的细菌进行光动力杀伤，并且，代谢基团和聚集诱导发光基团通过含有的不饱和键进行加成反应以化学键连接，二者连接紧密，可实现对细菌进行快速标记和原位清除，具有检测快速、广谱抗菌、降低耐药等特点，在细菌尤其耐药菌临床治疗中应用前景广阔。