[发明专利]钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置及对钕铁硼晶界深度调控的方法

权利要求书

1.一种钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置，其特征在于：包括进料系统、镀膜系统、出料系统、直流偏压电源（7）、冷却系统和抽真空系统；

所述进料系统包括进料室（1），所述进料室（1）内设置有进料斗（10），所述进料斗（10）的上部设有进料阀（11），所述进料室（1）的侧壁上设有抽气阀（25）及充氩阀（26），所述进料斗（10）的下方设置有振动均匀布料斗（12），所述振动均匀布料斗（12）位于电磁振动进料机构（13）的顶部，所述进料室（1）的底面上布置有供电磁振动进料机构（13）移动的滑轨；所述进料室（1）通过减震立柱 （28）支撑；

所述镀膜系统包括镀膜室（2），所述镀膜室（2）与进料室（1）之间通过真空隔断结构（27）隔开，所述镀膜室（2）分为反溅清洗区和溅射镀膜区，所述反溅清洗区在前端，包括布料振动工作台（14）及其上方的正偏压反溅清洗电极（8），所述正偏压反溅清洗电极（8）接反溅清洗正偏压电源；所述溅射镀膜区在后端，包括镀膜振动工作台（16）及其上方的磁控溅射阴极靶（9），所述磁控溅射阴极靶（9）接溅射镀膜负偏压电源；溅射镀膜负偏压电源与反溅清洗正偏压电源均由直流偏压电源（7）提供；所述振动均匀布料斗（12）的物料出口与布料振动工作台（14）衔接，所述布料振动工作台（14）与镀膜振动工作台（16）衔接；所述布料振动工作台（14）的下部设有电磁振动预溅射输料机（15），所述镀膜振动工作台（16）即为阳极衬板、下部设置有至少两台镀膜工作台电磁振动器（17）；所述镀膜室（2）的底面上设置有抽气阀（25）、侧壁上设置有充氩阀（26）；所述镀膜室（2）的顶部设置有多个气体质量流量计（24）；所述镀膜工作台电磁振动器（17）位于镀膜室（2）底面的倾角调节架（35）上，所述倾角调节架（35）的端部设有一个倾角举升电缸（38）；所述镀膜室（2）也由减震立柱（28）支撑；

所述出料系统包括出料室（3），所述出料室（3）与镀膜室（2）之间通过真空隔断结构（27）隔开，所述出料室（3）的下部为集料挡板阀（18），所述集料挡板阀（18）通过磁流体旋转密封（19）与旋转冷却滚筒（4）连接，所述旋转冷却滚筒（4）又通过磁流体旋转密封（19）与出料漏斗（20）连接，所述出料漏斗（20）的下部为出料阀（21），所述旋转冷却滚筒（4）的下方设有升降水槽（22）；所述磁流体旋转密封（19）下方由减震立柱（28）支撑；

所述冷却系统包括布置在进料室（1）、镀膜室（2）、出料室（3）内部和下方的冷却水循环管路（39）；

所述抽真空系统包括机械真空泵阀组（5）、罗茨泵阀组（6）与分子泵阀组（23）及气体质量流量计（24），所述机械真空泵阀组（5）固定于地面上；所述机械真空泵阀组（5）与罗茨泵阀组（6）相连接，所述罗茨泵阀组（6）通过抽真空管路连接于进料室（1）、镀膜室（2）与出料室（3）；所述分子泵阀组（23）位于镀膜室（2）内；

所述进料室（1）、镀膜室（2）、出料室（3）、布料振动工作台（14）与镀膜振动工作台（16）均接地，所述进料室（1）、镀膜室（2）分别与减震立柱（28）通过骨架油封形成行动密封，所述减震立柱（28）均固定在钢筋混凝土减震基础上。

2.根据权利要求1所述的一种钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置，其特征在于：所述真空隔断结构（27）包括真空旋转挡板阀（2701）与蜗轮蜗杆减速机（2702）。

3.根据权利要求1所述的一种钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置，其特征在于：所述布料振动工作台（14）的台面上设有多条纵向半圆弧型槽（40）；所述镀膜振动工作台（16）的台面上设置有锯齿面输料槽（41），所述布料振动工作台（14）内部也设置有冷却水循环管路（39）。

4.根据权利要求1所述的一种钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置，其特征在于：所述布料振动工作台（14）和镀膜振动工作台（16）材质为不锈钢、且均接地。

5.根据权利要求1所述的一种钕铁硼颗粒连续复合镀膜装置，其特征在于：所述磁控溅射阴极靶（9）由多条平行布置、可自由组合的系列矩形平面磁控靶构成，磁路为稀土永磁阵列，靶材之间间隔布置低压阳极。