[发明专利]一种室温红外敏感薄膜的图案化方法

权利要求书

1.一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，包括：

在衬底上依次旋涂聚甲基丙烯酸甲酯层、可溶性光刻胶层和正性光刻胶层；

采用掩模曝光，显影，反应离子刻蚀，在衬底上制作出三层胶结构；

用化学浴沉积法在衬底上沉积室温红外敏感薄膜；

用丙酮剥离剩余的胶，得到图案化的室温红外敏感薄膜；

所述室温红外敏感薄膜至少包括PbS薄膜、PbSe薄膜中的一种；

用化学浴沉积法在衬底上沉积室温红外敏感薄膜时，所述化学浴沉积法的前驱体溶液为碱性。

2.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述衬底至少包括硅片、读出电路中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述可溶性光刻胶层为不溶于丙酮，但易溶于碱性显影液的光刻胶层。

4.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述采用掩模曝光，显影，反应离子刻蚀，在衬底上制作出三层胶结构，具体包括：

采用掩模曝光，显影，得到可溶性光刻胶层和正性光刻胶层形成的双层结构，采用反应离子刻蚀去除裸露的聚甲基丙烯酸甲酯层，形成三层胶结构。

5.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述可溶性光刻胶层相对于所述正性光刻胶层在碱性显影液中具有更快的显影速率，在显影时，形成上宽下窄的倒梯形结构，以利于溶脱剥离。

6.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，在进行反应离子刻蚀操作时，反应离子刻蚀气体为氧气，功率为30-100W，刻蚀时间为几分钟。

7.根据权利要求1所述的一种室温红外敏感薄膜的图案化方法，其特征在于，所述室温红外敏感薄膜的厚度小于1微米。