[发明专利]工业遮挡目标检测方法在审

专利信息
申请号: 202210227869.4 申请日: 2022-03-08
公开(公告)号: CN114627292A 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 王慧燕;林文君;闫义祥;何浩 申请(专利权)人: 浙江工商大学;杭州小芃科技有限公司
主分类号: G06V10/26 分类号: G06V10/26;G06K9/62;G06V10/771;G06N3/04
代理公司: 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 代理人: 张解翠
地址: 310000 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 工业 遮挡 目标 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种工业遮挡目标检测方法,其特征在于,所述方法包括:

输入待处理图片,将待处理图片进行patch分割和应用线性嵌入层进行降维,得到第一特征图;

将第一特征图进行三次连续的Wiggle Transformer Block操作,生成第二特征图;

将第二特征图输入至Patch Merging模块执行Restructure操作,将经Restructure操作后的第二特征图进行三次连续的WiggleTransformer Block操作,生成第三特征图;

将第三特征图输入至Patch Merging模块执行Restructure操作,将经Restructure操作后的第三特征图进行六次连续的WiggleTransformer Block操作,生成第四特征图;

将第四特征图输入至Patch Merging模块执行Restructure操作,将经Restructure操作后的第四特征图进行三次连续的WiggleTransformer Block操作,生成第五特征图;

将第五特征图送入RPN网络,通过RPN网络对第五特征图进行遮挡目标检测,输出遮挡目标检测结果;

在三次连续的WiggleTransformer Block操作中,分别采用W-MSA模块,WWL-MSA模块和WWR-MSA模块进行窗口切分,在每个切分后形成的窗口中各自进行attention计算。

2.根据权利要求1所述的工业遮挡目标检测方法,其特征在于,所述输入待处理图片,将待处理图片进行patch分割和应用线性嵌入层进行降维,得到第一特征图,包括:

输入一张高度为H,宽度为W,通道数为3的待处理图片;

将待处理图片划分为个尺寸相同的patch块,每个patch块的高度为4像素,宽度为4像素;

将多个尺寸相同的patch块作为原始特征图输入至线性嵌入层中,将原始特征图的特征维度变为预设维度C,以将2维的原始特征图转换成1维patch片层,将转换后的1维patch片层作为第一特征图。

3.根据权利要求2所述的工业遮挡目标检测方法,其特征在于,所述将第一特征图进行三次连续的Wiggle Transformer Block操作,生成第二特征图包括:

将第一特征图输入至Wiggle Transformer Block中,进行第一Wiggle TransformerBlock操作;在进行第一Wiggle Transformer Block操作的过程中,利用W-MSA模块进行窗口切分,生成多个第一窗口,并在每个切分后形成的第一窗口中各自进行attention计算;

将经第一Wiggle Transformer Block操作后的第一特征图输入至WiggleTransformer Block中,进行第二Wiggle Transformer Block操作;在进行第二WiggleTransformer Block操作的过程中,利用WWL-MSA模块进行窗口切分,生成多个第二窗口,并在每个切分后形成的第二窗口中各自进行attention计算;

将经第二Wiggle Transformer Block操作后的第一特征图输入至WiggleTransformer Block中,进行第三Wiggle Transformer Block操作,将最终得到的特征图作为第二特征图;在进行第三Wiggle Transformer Block操作的过程中,利用WWR-MSA模块进行窗口切分,生成多个第三窗口,并在每个切分后形成的第三窗口中各自进行attention计算。

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