[发明专利]一釉两面陶瓷岩板、一釉两面透明釉及其制备方法

说明书

本发明涉及一釉两面陶瓷岩板、一釉两面透明釉及其制备方法。一釉两面陶瓷岩板从下到上依次包括：坯体层、底釉层、喷墨装饰层、胶辊印墨水保护层、一釉两面透明釉层。一釉两面透明釉，按重量百分比由以下组分组成：锂瓷石6.06％、烧氧化锌3.03％、钠石粉15.15％、白云石7.07％、DW透明熔块30.30％、GW透明熔块20.20％、碳酸钡2.02％、碳酸锶3.03％、高岭土8.09％、刚玉粉2.02％，超细石英粉3.03％。本发明通过GW透明熔块与DW透明熔块配比的调整，烧成后获得色域稳定、光泽度8～20度，透感好，手感细腻平滑的釉料层，满足抛光条件。

技术领域

本发明属于陶瓷岩板技术领域，特别涉及一种一釉两面陶瓷岩板、一釉两面透明釉及其制备方法。

背景技术

随着人们对生活品质要求的不断升级，陶瓷岩板已成为家庭装修或工程应用的主要装饰材料，当前国内陶瓷岩板产品釉面质感主要有抛光面和亚光面两种类型，目前在陶瓷岩板产品应用的过程中，为实现消费者个性或者不同的设计理念，以及满足应用场景的差异，通常会抛光类与亚光类陶瓷岩板搭配使用，这就要求具备同一图案色号不同釉面质感的两种岩板产品。

但实际上，目前抛光类岩板通常采用干粒法施釉工艺，其中干法干粒工艺流程为：干燥素坯→喷施底釉→喷墨印花→喷保护釉→干法布干粒→喷固定胶水→干燥→入窑烧成→抛光→磨边→分级打包；湿法干粒工艺流程为：干燥素坯→喷施底釉→喷墨印花→淋干粒釉→干燥→入窑烧成→抛光→磨边→分级打包。采用干粒施釉工艺对于抛光面岩板而言，具有施釉量大，釉面平整度好，通透感强等优点，缺点是干粒工艺由于施釉量大容易产生气泡、针眼等釉面缺陷问题，且干粒工艺产品对施釉设备、窑炉烧成、坯釉匹配性、操作流程要求高，此外干粒成本昂贵，加上干粒岩板制造过程成活率和优等率不高等因素严重制约着抛光类岩板广泛推广。而当前国内外生产的亚光类岩板产品则主要以数码喷墨工艺为主，其主要工艺流程为：干燥素坯→喷印白墨水→喷印颜色墨水→喷印数码墨水→烧成→磨边→分级打包。然而这类陶瓷岩板工艺大部分为意大利技术，尽管国内一些厂家整线引进意大利技术，但没有自主产权，且数码墨水用量大，制造成本昂贵。虽然近两年国内陶瓷墨水企业加强自主研发，但核心技术及主要市场依然被外资企业牢牢掌握。

以上两种工艺类型生产的抛光类与亚光类陶瓷岩板，由于施釉及生产工艺完全不同，墨水呈色色域范围差异较大，不同工艺类型制造的陶瓷岩板，其色调变化、层次效果因色域差异难以获得一致效果，因此产品在颜色效果搭配方面难以满足消费者或者设计师要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种陶瓷岩板坯体喷印装饰层或无喷墨装饰层表面，喷施一道陶瓷岩板特殊釉料层，特殊釉料层经过1204～1240℃高温烧成后，表面光泽度8～20度，釉面细腻、平整、润滑，表面通透感强，该釉料层满足抛面工艺基本要求，抛光前后颜色接近，其单色抛光前后色差值△E*范围为0.3～1.1，克服传统抛釉产品抛光前后颜色变化大的问题的一釉两面陶瓷岩板。本发明的另一目的是提供一种整合陶瓷岩板生产工艺平台，通过采用初分级，实现抛面(抛光类)岩板及自然面(亚光类)岩板效果合二为一，对于有落脏、坑点缺陷降级的自然面产品，可通过抛光转换成抛面产品，实现变废为宝，实现资源的有效利用的一釉两面陶瓷岩板生产工艺。本发明的再一目的是提供一种通过引入两种配方结构相似，烧结温度不同的熔块，有利于拓展釉料烧成范围，通过GW透明熔块与DW透明熔块配比的调整，可以获得色域稳定、烧成光泽度8～20度，手感细腻平滑的釉料层的一釉两面透明釉配方。

本发明的技术解决方案是所述一釉两面陶瓷岩板，其特殊之处在于，所述陶瓷岩板从下到上依次包括：坯体层、底釉层、喷墨装饰层、胶辊印墨水保护层、一釉两面透明釉层，其中底釉层配方：按重量百分比由以下组分组成：霞石正长岩粉41.86％，煅烧焦宝石11.16％，透辉石9.30％，超细石英粉16.74％，硅酸锆13.95％，高岭土6.52％，改性膨润土0.47％；其中霞石正长岩粉、超细石英粉细度控制为70μm～150μm；