[发明专利]一种低电导率非磁性太赫兹屏蔽复合材料及其制备方法有效
申请号: | 202210234871.4 | 申请日: | 2022-03-10 |
公开(公告)号: | CN114836039B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 秦风;白宇;吕银祥;高原;严志洋 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 |
主分类号: | C08L83/07 | 分类号: | C08L83/07;C08K5/14;C08K3/14;C08J5/18;C08J7/12;C23C18/40;C23C18/30 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 吕玲 |
地址: | 621000 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电导率 磁性 赫兹 屏蔽 复合材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种低电导率非磁性太赫兹屏蔽复合材料,其特征在于该复合材料包括有机硅橡胶与MXene的混合基底层和超薄导电铜层;所述超薄导电铜层为铜纳米粒子构成的金属层;所述有机硅橡胶与MXene的混合基底层表面具有金属铜的导电涂层,是指将基底层表面金属化,采用的工艺为热压成型;硅烷偶联剂改性接枝;铜纳米粒子自催化活化或化学镀金属。
2.如权利要求1所述的一种低电导率非磁性太赫兹屏蔽复合材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤(1):将有机硅橡胶生胶与硫化固化剂按照一定质量比例均匀混合;
步骤(2):将KH590硅烷偶联剂水解后加入步骤(1)的混合物中搅拌均匀,随后再加入一定量的MXene,在室温条件下不断搅拌;
步骤(3):将步骤(2)中混合物转移至电加热液压机中,在一定压强与温度下加压固化形成薄膜;
步骤(4):待薄膜凝固后,用紫外光处理薄膜样品,该薄膜样品为有机硅橡胶与MXene混合体;
步骤(5):将处理后的薄膜样品置于3-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中浸泡进行改性,溶剂为水,而后将其置于烘箱中烘干;
步骤(6):将经步骤(5)表面改性的样品浸泡于硫酸铜水溶液中,而后将浸泡过的样品置于硼氢化钠溶液中活化;
步骤(7):在完成铜纳米粒子活化后,立即将活化后的薄膜样品浸入铜化学镀液中,之后从化学镀液中取出,用去离子水冲洗后放入烘箱中,以促进表面干燥;
步骤(8):将步骤(7)中样品镀金属一面朝上固定于涂覆机上,通过热压方式,在样品表面再次制备一层有机硅橡胶与MXene混合体薄膜;
步骤(9):将样品水平放置充分凝固,得到“有机硅橡胶与MXene混合体-Cu-有机硅橡胶与MXene混合体”的三明治复合结构的复合材料,即电气绝缘性优异的非磁性太赫兹屏蔽复合材料。
3.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,有机硅橡胶以甲基乙烯基有机硅橡胶为生胶,硫化剂作为固化剂,有机硅橡胶与硫化剂的质量比为1:1-30:1。
4.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,加入的KH590与有机硅橡胶质量比为1:1-1:500;加入的MXene与有机硅橡胶质量比为1:1-1:1000。
5.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所施加的压强为0.5-5 Mpa,加热温度为100-200 ℃;步骤(4)中,紫外光强度为0.1-10 mW/cm2,处理薄膜样品时间5-500 min。
6.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(5)中,3-氨丙基三乙氧基硅烷水溶液中溶质与溶剂体积比为1:1-1:20;步骤(6)中,硫酸铜水溶液浓度为0.1-10 g/L,硼氢化钠溶液溶剂为水,浓度为0.1-2 M。
7.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(7)中,化学镀液的配方是将六水硫酸铜、甲醛、氢氧化钠和酒石酸钾钠溶于去离子水中,溶质浓度分别为:六水硫酸铜0.1-10 g/L、甲醛1-10 g/L、氢氧化钠0.05-5g/L、酒石酸钾钠溶液2-30 g/L。
8.如权利要求2所述复合材料的制备方法,其特征在于,步骤(8)中,加入有机硅橡胶中KH590、MXene与步骤(2)相同,KH590、MXene与有机硅橡胶质量比分别为1:1-1:500、1:1-1:1000。
9.如权利要求2-8中任意一项权利要求所述方法制备得到的复合材料,其特征在于,制备的太赫兹屏蔽复合材料在0.1-2.2 THz范围内具有超过38 dB的平均屏蔽效能,而电导率低至0.7 S/m。
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