[发明专利]一种基于立方氮化硼(c-BN) 单晶材料的肖特基-PN结二极管在审
申请号: | 202210240601.4 | 申请日: | 2022-03-10 |
公开(公告)号: | CN114613852A | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 郑伟;林卓耿;朱思琪 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L29/20 | 分类号: | H01L29/20;H01L29/47;H01L29/861 |
代理公司: | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人: | 高冰 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 立方 氮化 bn 材料 肖特基 pn 二极管 | ||
1.一种基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管,其特征在于,所述的肖特基-PN结二极管包括c-BN晶体、ITO薄膜和Au电极。其中,在所述c-BN晶体的两侧分别镀上ITO薄膜和Au电极,再将Au与In焊接,作为外接导线。
2.根据权利要求1所述的基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管,其特征在于,所述c-BN晶体在温度为1800℃、压强为6GPa的高温高压条件下合成所得。
3.根据权利要求1或2所述的基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管,其特征在于,所述c-BN晶体最大宽度处约1.5mm。
4.根据权利要求1所述的基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管,其特征在于,所述肖特基-PN结二极管的理想因子为25.15,开启电压为5V。
5.根据权利要求1所述的基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管,其特征在于,所述c-BN晶体与Au电极之间形成了肖特基接触,所述c-BN晶体与ITO薄膜之间形成了PN结接触。
6.一种如权利要求1所述的基于立方氮化硼(c-BN)单晶材料的肖特基-PN结二极管的应用,其特征在于,可应用于功率二极管。
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