[发明专利]一种卷对卷真空镀膜机的控制系统及控制方法

说明书

本发明涉及真空镀膜领域，公开了一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，控制系统包括第一控制器和第二控制器；第一控制器包括：真空泵组单元，用于对各个过渡腔室进行抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度；基材卷绕单元，用于镀膜前基材的放卷和镀膜后基材的收卷工作，使基材能够连续不断地通过所有过渡腔室和镀膜腔室；密封辊组单元，用于密封各个过渡腔室之间、以及末端过渡腔室的通口，使各个过渡腔室独立分隔开，并使基材能够顺利通过所有过渡腔室和镀膜腔室。本发明通过各个单元的相互配合，能够实现高质量、高效率的镀膜工艺。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种卷对卷真空镀膜机的控制系统及控制方法。

背景技术

镀膜设备是一种用于对物体进行镀膜的设备，目前镀膜设备主要是真空镀膜，真空镀膜设备是一类需要在较高真空度下进行镀膜的设备，主要包括蒸发和溅射两种，具体可以包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子外延、PLD激光溅射沉积等；例如在薄膜沉积，光学部件的镀膜等，一般采用离子源来进行。

卷对卷真空镀膜机是一种能够实现连续性镀膜的真空镀膜设备，卷对卷真空镀膜机内的中间位置设置有镀膜腔室，镀膜腔室的两侧设置有多个过渡腔室，并且相邻腔室之间通常设置有供基材穿过的通口。而普通的卷对卷真空镀膜机只是在镀膜腔室内简单地安装一个镀膜设备，其镀膜质量、镀膜效率都非常低。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提供一种卷对卷真空镀膜机的控制系统和控制方法，达到高质量、高效率的镀膜工艺。

本发明通过以下技术手段解决上述技术问题：

一种卷对卷真空镀膜机的控制系统，所述控制系统包括第一控制器和第二控制器；

所述第一控制器包括：

真空泵组单元，用于对各个过渡腔室进行抽真空，使所有过渡腔室内的真空度由两侧往中间方向逐级增高，并使镀膜腔室内维持最高真空度；

基材卷绕单元，用于镀膜前基材的放卷和镀膜后基材的收卷工作，使基材能够连续不断地通过所有过渡腔室和镀膜腔室；

密封辊组单元，用于密封各个过渡腔室之间、以及末端过渡腔室的通口，使各个过渡腔室独立分隔开，并使基材能够顺利通过所有过渡腔室和镀膜腔室；

等离子射频单元，用于对镀膜前的基材进行清洁处理，使基材的镀膜面保持干净整洁；

加热单元，用于对镀膜前、镀膜中和镀膜后的基材进行加热处理，使基材的镀膜面保持干燥；

水冷单元，用于对镀膜腔室和真空泵组单元进行冷却处理，使镀膜工艺顺利进行；

所述第二控制器包括：

镀膜单元，用于对基材进行连续性镀膜。

进一步，所述基材卷绕单元的数量为两个，其中一个设置在真空镀膜机外的首端用于镀膜前基材的放卷，另一个设置在真空镀膜机外的尾端用于镀膜前基材的收卷，所述基材卷绕单元包括安装架、第一导辊、第二导辊、收放辊和第一电机，所述第一导辊、第二导辊和收放辊均转动安装在安装架上，所述第一电机固定在安装架上并用于驱动收放辊转动，所述第一电机与第一控制器电连接。

进一步，所述基材卷绕单元还包括旋转轴、旋转编码器、两根连接杆、张紧辊、配重轴和配重块，所述旋转轴转动安装在安装架内，所述旋转编码器固定在安装架上并与旋转轴相连，所述旋转编码器与第一控制器电连接，两根所述连接杆分别固定在旋转轴的两端，所述张紧辊转动安装在两根连接杆之间并位于第一导辊和第二导辊中间位置的下侧，所述配重轴转动安装在两根连接杆上远离旋转轴的一端，所述配重块安装在配重轴上。