[发明专利]一种四齿氮含氟金属有机框架材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种四齿氮含氟金属有机框架材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1，将含氟阴离子原料、铜源均匀分散于水溶剂中，获得溶液A；

并将四齿氮配体均匀分散于有机溶剂中，获得溶液B；

步骤2，将所述溶液B加至所述溶液A中，搅拌反应，即获得所述四齿氮含氟金属有机框架材料；

所述四齿氮配体为四(4-吡啶基)乙烯；

所述含氟阴离子原料为六氟铵盐；

所述铜源为四氟硼酸铜或硝酸铜；

所述溶液A中，六氟铵盐的浓度为0.06~8.0 mol /L，且所述六氟铵盐为(NH₄)₂SiF₆或(NH₄)₂GeF₆；

所述溶液B采用滴加的方式加至所述溶液A中，且滴加的速率为0.5~3 mL /min；

所述搅拌的温度为10~35℃，搅拌时间为12~60 h。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溶液B中，四齿氮配体的浓度为0.06~9.6 mol/L。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述铜源与含氟阴离子原料的摩尔比为1:1~4；

步骤2中，所述溶液A和所述溶液B的体积比为0.2~4:1。

4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1，所述有机溶剂为甲醇、乙醇和乙腈中的一种。

5.一种权利要求1-4任意一项所述的制备方法制得的四齿氮含氟金属有机框架材料，其特征在于，化学式为Cu(TPE)(AF₆)；其中，TPE为四(4-吡啶基)乙烯；AF₆^2-为含氟阴离子，A为Si或Ge；

且Cu(TPE)(AF₆)中，每个铜离子分别与四个四(4-吡啶基)乙烯上的吡啶基键连，形成二维层状网络结构，且相邻的两个二维层状网络结构通过多个含氟阴离子桥连，从而形成无相互渗透的三维框架；

且所述三维框架的孔径为0.3~3.0 nm，孔容为0.1~0.7 cm³/g；比表面积为150~750 m²/g。

6.一种权利要求5所述的四齿氮含氟金属有机框架材料在选择性富集真菌毒素材料中的应用，其特征在于，所述真菌毒素包括链格孢酚(AOH)，交链格孢酚单甲醚(AME)，交链孢烯(ALT)，链格孢菌毒素(ATT)，腾毒素(TEN)、细交链格孢菌酮酸(TEA) 和娄地霉素(MPA)。