[发明专利]用于构建CVB和TAV双重检测体系实验的反应温度控制设备

权利要求书

1.用于构建CVB和TAV双重检测体系实验的反应温度控制设备，其特征在于：包括具有容置腔室的反应容器（3）以及置于容置腔室内于反应容器（3）轴心处布置的导热组件（5），导热组件（5）包括套管（52）以及较套管（52）向外延伸至反应容器（3）侧壁处的导热板（51），导热板（51）旁侧于反应容器（3）侧壁处固定有与导热板（51）平行的分隔组件（4），分隔组件（4）一端延伸至套管（52）侧壁处，用于与反应容器（3）、导热板（51）以及套管（52）组合形成一个封闭腔室；

所述套管（52）内设有转动安装在反应容器（3）轴心处的方位调整组件（2），方位调整组件（2）为驱动套管（52）旋转的驱动结构，驱动结构驱动套管（52）顺时针或逆时针转动，使导热板（51）较分隔组件（4）抵近或远离，用于调节封闭腔室的空间大小；

所述方位调整组件（2）远离反应容器（3）的一端相对于反应容器（3）向外延伸，方位调整组件（2）向外延伸的一端与外源导热设备连接，用于将热量由导热板（51）和套管（52）的组合体导入封闭腔室内；

所述套管（52）侧壁处设有与方位调整组件（2）抵接的延伸块（53），延伸块（53）至少设有两个，且相邻延伸块（53）之间于套管（52）侧边处设有将套管（52）与导热板（51）连通的承接槽（54）；

所述方位调整组件（2）包括置于套管（52）内的轴管（22）以及安装在轴管（22）侧壁处用于与延伸块（53）抵接的扩展块（23），轴管（22）转动安装在反应容器（3）轴心处，扩展块（23）至少设有两个，用于轴管（22）顺时针或逆时针转动时抵接延伸块（53），使套管（52）与轴管（22）一同转动；

所述方位调整组件（2）还包括远离反应容器（3）至轴管（22）另一端安装的热管（25）以及套设在热管（25）处的隔热握把（24），热管（25）相较于反应容器（3）向外延伸，用于与外源导热设备连接；

临近所述承接槽（54）的一个扩展块（23）处设有用于导出热量的导热口（21），导热口（21）位于扩展块（23）与延伸块（53）抵接的一侧端部；

所述分隔组件（4）包括置于反应容器（3）内的隔板（42）以及位于隔板（42）端侧的辊槽（43），辊槽（43）内转动套设有与套管（52）表面滚动接触的导辊（44）；

所述隔板（42）内设有空腔，所述隔板（42）上顶部设有与空腔连通的排口（41），所述隔板（42）远离导热板（51）的一端设有与空腔连通的入口（45），用于导热板（51）较隔板（42）进行顺时针或逆时针的交替转动时，使反应容器（3）内气体至空腔内快速流动；

所述反应容器（3）顶端设有封盖（1），封盖（1）包括用于密封反应容器（3）的盖本体（11）以及开设在盖本体（11）处与排口（41）叠合的开口（12）；

所述导热板（51）内部具有连通套管（52）和封闭腔室的通道，导热板（51）通过方位调整组件（2）与外源导热设备连接，并以方位调整组件（2）为中转结构，将外源导热设备所产出的热量导入封闭腔室。