[发明专利]用于提高VAD光纤预制棒芯包同心度的调控装置及方法

说明书

本申请涉及一种用于提高VAD光纤预制棒芯包同心度的调控装置及方法，涉及光纤制备技术领域，调控装置包括定位车和控制机构，定位车上设有检测单元和推杆，定位车用于运行至沉积室处，以使推杆朝向沉积引杆和靶棒；检测单元用于检测沉积引杆的第一位置和靶棒的第二位置；推杆用于推动靶棒上位于软化区域以下的目标节段移动；其中，软化区域由喷灯加热靶棒而形成；控制机构与检测单元、喷灯和推杆均相连，控制机构用于根据第一位置和第二位置，判断第二位置是否满足预设生产条件，当不满足时，获取靶棒移动的目标位移，并控制喷灯加热靶棒，以及控制推杆推动目标节段移动目标位移。

技术领域

本申请涉及光纤制备技术领域，特别涉及一种用于提高VAD光纤预制棒芯包同心度的调控装置及方法。

背景技术

光纤作为传输光信号的媒介，光纤通信具有通信容量大、传输距离远、信号串扰小、保密性能好、抗电磁干扰和传输质量佳等诸多优点，在现代电信网中起着举足轻重的作用。光纤损耗是光纤性能的重要指标之一，光纤损耗的高低直接影响着通信传输的距离或中继站距离间隔的远近以及SDH、WDM等通信设备的性能，系统成本也主要集中在控制损耗上，因此，光纤损耗对于光纤能否适应未来通信技术的发展有着重大的现实意义。但是光纤的纤芯/包层同心度(芯包同心度)差是导致光纤熔接损耗的主要原因之一。

目前通常采用轴向气相沉积法VAD和外部化学气相沉积法OVD制备光纤预制棒，轴向气相沉积法VAD和外部化学气相沉积法OVD具备沉积速率快、成本低等优势，被广泛应用于“两步法”光纤预制棒的制造领域。

其中，VAD工艺技术主要用于光纤预制棒的芯棒生产，对于大尺寸芯棒制造，其沉积时间持续30h以上，沉积过程中粉棒的晃动，均将导致光纤预制棒的芯包同心度质量恶化。

而且，VAD沉积生产完成后重新开机，靶棒安装位置的精度直接关系到沉积过程中粉棒的晃动程度，从而影响光纤预制棒芯包同心度质量，最终决定光纤的芯包同心度。

发明内容

本申请实施例提供一种用于提高VAD光纤预制棒芯包同心度的调控装置及方法，以解决相关技术中靶棒安装位置的精度无法保证，从而影响光纤预制棒芯包同心度质量的问题。

第一方面，提供了一种用于提高VAD光纤预制棒芯包同心度的调控装置，其包括：

定位车，其上设有检测单元和推杆，所述定位车用于运行至沉积室处，以使所述推杆朝向沉积引杆和靶棒；所述检测单元用于检测所述沉积引杆的第一位置和所述靶棒的第二位置；所述推杆用于推动所述靶棒上位于软化区域以下的目标节段移动；其中，所述软化区域由喷灯加热所述靶棒而形成；

控制机构，其与所述检测单元、喷灯和推杆均相连，所述控制机构用于根据所述第一位置和所述第二位置，判断所述第二位置是否满足预设生产条件，当不满足时，获取所述靶棒移动的目标位移，并控制喷灯加热所述靶棒，以及控制所述推杆推动所述目标节段移动所述目标位移。

一些实施例中，所述预设生产条件为：所述靶棒相对于所述沉积引杆的垂直度H达到第一预设值，以及所述靶棒相对于所述沉积引杆的圆跳动CR达到第二预设值。

一些实施例中，H的计算公式如下：

其中，X0,Y0分别为所述沉积引杆的X坐标和Y坐标；X00，Y00分别为所述靶棒的X坐标和Y坐标，L为所述沉积引杆的测量点至所述靶棒的测量点的竖直距离。

一些实施例中，CR的计算公式如下：

其中，X0,Y0分别为所述沉积引杆的X坐标和Y坐标；X00，Y00分别为所述靶棒的X坐标和Y坐标。