[发明专利]电化学装置及包括其的电子装置

权利要求书

1.一种电化学装置，其包含正极、负极、隔离膜及电解液，

其中所述电解液包含腈化合物和过渡金属离子，并满足：5≤A/B≤30000，

其中，以所述电解液的总摩尔量计，所述电解液中氰基的摩尔百分比为A％，以所述电解液的总重量计，所述电解液中的所述过渡金属离子的重量百分比为B％，

其中所述正极包含正极活性物质，所述正极活性物质中含有铝元素，其中以所述正极活性物质的总重量计，所述铝元素的重量百分比为C％，所述C的数值范围为：0.001C1，并且所述A与所述C满足如下关系：0.01≤A/C≤170，

其中所述正极活性物质经过差示扫描量热法测试得到的曲线包含第一放热峰和第二放热峰，其中所述第一放热峰对应的温度为X，240℃≤X≤280℃，所述第二放热峰对应的温度为Y，280℃＜Y≤340℃。

2.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述过渡金属离子包括铁离子、钴离子、镍离子、锰离子或铜离子中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述腈化合物包含式I化合物、式II化合物或式III化合物中的至少一种：

其中R₁选自取代或未取代的C₁至C₁₀亚烷基、取代或未取代的C₁至C₁₀亚烷氧基、取代或未取代的C₂至C₁₀亚烯基、取代或未取代的C₆至C₁₂亚芳基、取代或未取代的C₆至C₁₀亚环烷基，其中经取代时，取代基选自卤素、氰基或羧基中的至少一种；

其中R₂₁、R₂₂、R₂₃各自独立地选自单键、取代或未取代的C₁至C₅亚烷基、取代或未取代的C₁至C₁₀亚烷氧基，其中经取代时，取代基选自卤素、氰基或羧基中的至少一种；

其中，R₃₁选自取代或未取代的C₁至C₅的亚烷基、取代或未取代的C₁至C₅的亚烷氧基、取代或未取代的C₂至C₁₀的亚烯基、取代或未取代的C₃至C₆的亚环烷基、取代或未取代的C₆至C₁₀的亚芳基、取代或未取代的C₁至C₆的亚杂环基团，其中经取代时，取代基选自卤素、氰基或羧基中的至少一种，其中亚杂环基团中的杂原子选自O、N、P或S中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的电化学装置，其中以所述电解液的总重量计，所述电解液中的所述钴离子的重量百分比小于等于0.1％，所述电解液中的所述铜离子的重量百分比小于等于0.1％。

5.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述第一放热峰的峰面积≤50J/g，所述第二放热峰的峰面积≤800J/g。

6.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述电解液还包含式IV化合物：

其中R₄₁选自取代或未取代的C₁至C₁₂烷基、取代或未取代的C₃至C₁₂环烷基、取代或未取代的C₂至C₁₂烯基、取代或未取代的C₂至C₁₂炔基、取代或未取代的C₆至C₂₂芳基、取代或未取代的C₅至C₂₂杂芳基，其中经取代时，取代基选自卤素、氰基或羧基中的至少一种；其中以所述电解液的总重量计，所述式IV化合物的重量百分比为0.001％至5％。