[发明专利]一种垂直腔边发射激光器

权利要求书

1.一种垂直腔边发射激光器，其特征在于，包括：

有源层和至少两个布拉格结构；至少两个所述布拉格结构位于所述有源层的相对两侧；

其中，所述布拉格结构由至少两种不同折射率的材料层沿垂直于所述有源层的方向层叠构成；垂直于所述有源层的方向为外延生长的方向；至少一个布拉格结构为二阶或大于二阶的光栅；激光能够从周期阶数为二阶和大于二阶的布拉格结构的侧壁出射；位于所述有源层的相对两侧最外侧的两个布拉格结构中，一个为上布拉格结构，另一个为下布拉格结构；所述上布拉格结构和所述下布拉格结构的每个光学周期包括光学厚度为四分之一激射波长奇数倍的第一折射率材料层和光学厚度为四分之一激射波长奇数倍的第二折射率材料层。

2.根据权利要求1所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，

所述布拉格结构的个数为两个，分别为上布拉格结构和下布拉格结构；

所述上布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的m1倍，m1为大于或等于2的整数；所述下布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的n1倍，n1为大于或等于1的整数；

或者，所述上布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的m2倍，其中m2为大于或等于1的整数；所述下布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的n2倍，n2为大于或等于2的整数；

或者，所述上布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的m3倍，其中m3为大于或等于2的整数；所述下布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的n3倍，其中n3为大于或等于2的整数；

一个光学周期中包括两层不同折射率的材料层。

3.根据权利要求2所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述上布拉格结构的光学周期厚度等于所述下布拉格结构的光学周期厚度。

4.根据权利要求2所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述上布拉格结构的光学周期厚度与所述下布拉格结构的光学周期厚度不同。

5.根据权利要求1所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，

所述布拉格结构的个数大于两个，所述上布拉格结构与所述有源层之间和/或所述下布拉格结构与所述有源层之间包括至少一个中布拉格结构；

所述上布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的M倍，M为大于或等于1的整数；

所述下布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的N倍，N为大于或等于1的整数；

所述中布拉格结构的光学周期厚度等于半激射波长的t倍，t为大于或等于2的整数。

6.根据权利要求5所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述中布拉格结构的每个光学周期由光学厚度为四分之三激射波长的第一折射率材料层和光学厚度为四分之一激射波长奇数倍的第二折射率材料层组成。

7.根据权利要求5所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述中布拉格结构的每个光学周期由光学厚度为二分之一激射波长的第一折射率材料层和光学厚度为二分之一激射波长整数倍的第二折射率材料层组成。

8.根据权利要求1所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述有源层的个数至少为两个，相邻的两个布拉格结构之间设置一个有源层。

9.根据权利要求1所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述布拉格结构的材料包括半导体材料或电介质材料。

10.根据权利要求1所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，所述垂直腔边发射激光器的形状包括圆形、椭圆形、半圆形或半椭圆形。

11.根据权利要求10所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，还包括：

增反膜，所述增反膜用于增强出光面的出光强度。

12.根据权利要求11所述的垂直腔边发射激光器，其特征在于，基于对垂直腔边发射激光器的形状设置，并结合在垂直腔边发射激光器的侧壁设置的增反膜的覆盖面积的调整，所述激光在平行于有源层所在平面的面内覆盖的角度范围包括0度~360度。