[发明专利]一种低温芯片工作状态的观测装置及观测方法

权利要求书

1.一种低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，包括透镜、远红外探测阵列、平移台和计算机，所述透镜和远红外探测阵列设置在平移台上，所述透镜与所述平移台垂直，所述远红外探测阵列采用有线或无线的方式连接到安装有成像软件的计算机上。

2.根据权利要求1所述的低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，还包括外壳，所述外壳设置在所述平移台上，所述外壳内封装所述透镜、远红外探测阵列。

3.根据权利要求2所述的低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，所述透镜为双面镀远红外增透膜的高阻硅透镜。

4.根据权利要求3所述的低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，所述远红外探测阵列采用工作波长为10μm-200μm的远红外探测阵列。

5.根据权利要求4所述的低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，所述外壳采用铝合金材料制成。

6.根据权利要求5所述的低温芯片工作状态的观测装置，其特征在于，所述平移台为电动三维平移台。

7.一种低温芯片工作状态的观测方法，其特征在于，使用如权利要求6所述的低温芯片工作状态的观测装置，具体包括以下步骤：

步骤1：将所述透镜和远红外探测阵列安装于所述外壳上，并将所述外壳安装于所述平移台上，形成一个三维位置可电驱动移动的远红外辐射观测装置；

步骤2：通过所述计算机控制调节所述平移台，使所述低温芯片及其工作环境中目标区域的像刚好落在所述远红外探测阵列上，并通过所述计算机上的控制软件清晰地观测到；

步骤3：根据所述平移台的位置信息，记录低温芯片及其工作环境中不同区域的远红外图像；

步骤4：针对特定的目标区域，通过所述计算机上的控制软件记录目标区域远红外图像随时间的变化。