[发明专利]一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法

权利要求书

1.一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：将氧化铝原料、超纯水和研磨介质a上料研磨机A中，循环研磨至氧化铝的粒径D50为1-3μm；

步骤2：将研磨机A中研磨完成后的氧化铝、超纯水输送至研磨机B中，并将分散剂和研磨介质b上料至研磨机B中，循环研磨至氧化铝的粒径D50为80-120nm，D99＜280nm；

步骤3：对研磨机B中研磨完成后的氧化铝浆料进行纯化处理；

步骤4：对纯化处理后的氧化铝浆料进行过滤，得到高纯度纳米氧化铝抛光浆料。

2.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，所述氧化铝原料为原晶粒径＜0.5μm的煅烧α-Al₂O₃；

α-Al₂O₃含量≥98％，总Al₂O₃纯度≥99.8％。

3.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，所述分散剂为三乙醇胺、聚丙烯酸铵盐、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、聚乙烯醇、十二烷基苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、苯乙烯-马来酸系超分散剂中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，所述聚乙烯醇的聚合度为2.5万-17万，醇解度为78％-98％；

所述聚丙烯酸铵盐的固含量为35％-65％。

5.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，所述研磨介质a为氧化铝球和氧化锆球中的一种；

研磨介质a的直径为2mm。

6.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，步骤1中的研磨时长为15min，研磨得到的氧化铝粒径D50为2μm。

7.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，所述研磨介质b为氧化铝球和氧化锆球中的一种；

研磨介质b的直径为0.1mm。

8.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，步骤2中研磨时长为4-8h。

9.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，步骤3中的纯化处理方法为：采用阴离子交换树脂和阳离子交换树脂对氧化铝浆料进行纯化处理；

纯化处理后浆料中离子浓度为：铁离子＜30ppm，钠离子＜20ppm，钾离子＜20ppm。

10.根据权利要求1所述的一种高纯纳米氧化铝抛光浆料的制备方法，其特征在于，步骤4中滤芯过滤器的精度为1μm。