[发明专利]提高反应腔流场稳定性的外延托盘及使用方法

权利要求书

1.一种提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，所述外延托盘呈柱状且包括同轴相连的衬底放置柱与支撑柱，所述衬底放置柱的直径大于所述支撑柱的直径，所述衬底放置柱远离所述支撑柱的端面为第一表面，所述衬底放置柱在所述第一表面具有多个同心的衬底放置圈，每个所述衬底放置圈都包括多个沿所述外延托盘的周向均匀分布的圆形凹槽；

所述衬底放置柱的侧壁具有多个缓冲凹槽，所述多个缓冲凹槽沿所述衬底放置柱的周向等距离间隔分布，每个所述缓冲凹槽在所述第一表面所在平面上的投影均包括气流过渡弧线与气流缓冲弧线，所述气流过渡弧线的半径与弧长分别小于所述气流缓冲弧线的半径与弧长，所述气流缓冲弧线的半径小于所述衬底放置柱的弧长；

所述支撑柱的侧壁具有多个导向斜槽，所述多个导向斜槽沿所述支撑柱的周向等距离间隔分布，每个所述导向斜槽均包括靠近所述衬底放置柱的气流引入开口与远离所述衬底放置柱的气流引出开口，每个所述气流引入开口在所述第一表面所在平面的投影与所述缓冲凹槽在所述第一表面所在平面的投影间隔。

2.根据权利要求1所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，每个所述导向斜槽均位于相邻的两个所述缓冲凹槽之间，且每个所述导向斜槽与相邻的两个所述缓冲凹槽之间的距离均相等。

3.根据权利要求2所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，所述衬底放置柱的直径与所述支撑柱的直径之差为6mm～12mm，每个所述导向斜槽在所述第一表面所在平面的投影与相邻的所述缓冲凹槽在所述第一表面所在平面的投影之间的最小距离为5mm～15mm。

4.根据权利要求1～3任一项所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，每个所述缓冲凹槽在所述第一表面所在平面的投影还包括两端分别连接所述气流过渡弧线与所述气流缓冲弧线的连接弧线，所述连接弧线的弧长及所述连接弧线的半径分别小于所述气流过渡弧线的弧长及所述气流过渡弧线的半径。

5.根据权利要求4所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，所述连接弧线的半径小于二分之一的所述气流过渡弧线的半径，所述连接弧线的弧长小于二分之一的所述气流过渡弧线的弧长。

6.根据权利要求4所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，最靠近所述第一表面的边的相邻的两个所述圆形凹槽的圆心连线的中垂线与所述连接弧线相交。

7.根据权利要求1～3任一项所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，所述导向斜槽的深度为760～790mm。

8.根据权利要求1～3任一项所述的提高反应腔流场稳定性的外延托盘，其特征在于，将所述支撑柱的侧壁展开成矩形，位于所述矩形上的导向斜槽为圆环的一部分，所述圆环的内径大于所述矩形的宽度。