[发明专利]在制造过程中引导过程模型和检查的方法在审
申请号: | 202210274608.8 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN114578661A | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 曹宇;邹毅;林晨希 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G05B19/418;G06T7/00;H01L21/66 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 过程 引导 模型 检查 方法 | ||
1.一种在制造过程中引导过程模型和检查的方法,所述方法包括:
在衬底上的一组部位中的每一个处,使用第一过程模型且使用第二过程模型来模拟在所述衬底上产生的图像的第一特性;
在所述一组部位中的每一个处确定使用所述第一过程模型来模拟的第一特性与使用所述第二过程模型来模拟的第一特性之间的偏差;
基于所述偏差从所述一组部位选择部位的子组;
使用来自所选择的部位的所述子组的数据调整所述第一过程模型、使用所述数据来构造第三过程模型、使用所述数据来调整形成所述图像的过程的条件,和/或检查基于部位的所述子组来确定的所述衬底上的部位的一个群组处的缺陷。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述图像为空间图像。
3.如权利要求1所述的方法,其中所述图像为抗蚀剂的图像。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述图像为所蚀刻的图像。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述第一特性为临界尺寸。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述第一特性为过程窗口。
7.如权利要求1所述的方法,其中模拟所述第一特性包括使用所述一组处理条件。
8.如权利要求1所述的方法,其中部位的所选择的子组处的所述偏差在所述一组部位处的偏差中是最高的。
9.如权利要求1所述的方法,其中所述数据包括形成所述图像的所述过程的条件和在部位的所述子组处测量的第二特性。
10.如权利要求1所述的方法,包括使用所述数据调整形成所述图像的过程的条件。
11.如权利要求10所述的方法,其中所述过程的所述条件包括用于形成所述图像的图案形成装置的特性。
12.如权利要求10所述的方法,其中所述过程的所述条件包括:用于形成所述图像的照射的特性或用于形成所述图像的投影光学装置的特性。
13.一种非暂时性计算机可读介质,其中记录有指令,所述指令在由计算机系统执行时,被配置为实施如权利要求1-12中任一项所述的方法。
14.一种衬底检查系统,包括:
过程模型训练模块;
控制模块;和
模拟模块,
其中所述过程模型训练模块被配置成接收来自一组部位的数据,且被配置成从所述控制模块接收在衬底上形成图像的过程的条件,
其中所述过程模型训练模块被配置成基于所述数据和所述条件来构造或修改第一过程模型,
其中所述模拟模块被配置成使用所述第一过程模型模拟所述图像的特性,且被配置成将所模拟的特性传输至所述控制模块,
其中所述控制模块被配置成确定使用所述第一过程模型来模拟的特性与使用第二过程模型来模拟的特性之间的偏差,和
其中所述控制模块被配置成基于所述偏差来调整所述条件、从所述部位选择子组、使得检查所述衬底,和/或使得所述过程模型训练模块构造或修改所述第一过程模型。
15.如权利要求14所述的衬底检查系统,其中所述测量模块包括光学显微镜、扫描探针显微镜或电子扫描显微镜。
16.如权利要求14或15所述的衬底检查系统,还包括被配置成调整所述条件的条件调整模块,其中所述控制模块被配置成通过所述条件调整模块来调整所述条件。
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