[发明专利]一种节能型低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种节能型低辐射镀膜玻璃，包括依次叠合的玻璃基片和金属膜层，其特征在于，玻璃基片(1)；

第一膜层(2)，位于玻璃基片的表面，所述第一膜层为硅铝合金膜；

第二膜层(3)，位于所述第一膜层的表面，所述第二膜层为氧化锌铝合金膜；

第三膜层(4)，位于所述第二膜层的表面，所述第三膜层为镍铬合金膜；

第四膜层(5)，位于所述第三膜层的表面，所述第四膜层为银膜；

第五膜层(6)，位于所述第四膜层的表面，所述第五膜层为镍铬合金膜；

第六膜层(7)，位于所述第五膜层的表面，所述第六膜层为氧化锌铝合金膜；

第七膜层(8)，位于所述第六膜层的表面，所述第七膜层为硅铝合金膜；

第八膜层(9)，位于所述第七膜层的表面，所述第八膜层为氧化锌铝合金膜；

第九膜层(10)，位于所述第八膜层的表面，所述第九膜层为镍铬合金膜；

第十膜层(11)，位于所述第九膜层的表面，所述第十膜层为银膜；

第十一层(12)，位于所述第十膜层的表面，所述第十一膜层为镍铬合金膜；

第十二层(13)，位于所述第十一膜层的表面，所述第十二膜层为氧化锌铝合金膜；

第十三层(14)，位于所述第十二膜层的表面，所述第十三膜层为硅铝合金膜；

第十四层(15)，位于所述第十三膜层的表面，所述第十四膜层为氧化锆膜。

2.如权利要求1所述的一种节能型低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一膜层的厚度为100-120nm；所述第二膜层的厚度为15-30nm；所述第三膜层的厚度为3-8nm；所述第四膜层的厚度为3-8nm；所述第五膜层的厚度为1-10nm；所述第六膜层的厚度为20-40nm；所述第七膜层的厚度为370-420nm；所述第八膜层的厚度为10-30nm；所述第九膜层的厚度为1-8nm；所述第十膜层的厚度为3-20nm；所述第十一膜层的厚度为1-8nm；所述第十二膜层的厚度为10-30nm；所述第十三膜层的厚度为150-200nm；所述第十四膜层的厚度为20-50nm。

3.如权利要求1或2所述的一种节能型低辐射镀膜玻璃，其特征在于，在玻璃基片(1)的一个表面自下而上依次叠合所述第一硅铝合金膜层(2)、第二氧化锌铝合金膜层(3)、第三镍铬合金膜层(4)、第四银膜层(5)、第五镍铬合金膜层(6)、第六氧化锌铝合金膜层(7)、第七硅铝合金膜层(8)、第八氧化锌铝合金膜层(9)、第九镍铬合金膜层(10)、第十银膜层(11)、第十一镍铬金膜层(12)、第十二氧化锌铝合金膜层(13)、第十三硅铝合金膜层(14)、第十四氧化锆膜(15)。

4.一种节能型低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下顺序进行的步骤：

1)烧结靶材

将硅铝合金、氧化锌铝合金、镍铬合金、银、氧化锆靶材分别烧结在玻璃镀膜机的真空溅射室的靶位上，备用；

2)玻璃的预处理

将待镀膜处理的玻璃置于真空状态下，对待镀膜处理的玻璃进行排湿、脱气处理，降低玻璃表面沉积的水份和气体，制得排湿、脱气玻璃；

3)镀膜处理

将排湿、脱气玻璃送入玻璃镀膜机的真空磁控溅射室内，在排湿、脱气玻璃的表面自下而上依次镀覆第一硅铝合金膜；第二氧化锌铝合金膜；第三镍铬合金膜；第四银膜；第五镍铬合金膜；第六氧化锌铝合金膜；第七硅铝合金膜；第八氧化锌铝合金膜；第九镍铬合金膜；第十银膜；第十一镍铬合金膜；第十二氧化锌铝合金膜；第十三硅铝合金膜；第十四氧化锆膜。

5.如权利要求4所述的一种节能型低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤3)中所述第一硅铝合金膜层分三次镀覆处理而成。

6.如权利要求4所述的一种节能型低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤3)中所述第七硅铝合金膜层分八次镀覆处理而成。

7.如权利要求4所述的一种节能型低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，步骤3)中所述第九硅铝合金膜层分四次镀覆处理而成。