[发明专利]基板组件、显示装置及基板组件的制作方法

权利要求书

1.一种基板组件，用于显示装置，其特征在于，包括：

基板，具有第一表面；

过渡层，层叠设置于所述基板的所述第一表面，所述过渡层包括第一膜层和第二膜层，所述第二膜层设置于所述第一膜层背向所述基板的一侧，所述第一膜层包括氮氧化硅，所述第二膜层包括二氧化硅；

抗菌膜层，设置于所述第二膜层背向所述基板的一侧，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

2.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层中所述掺杂材料的质量百分比为0.3％-5％。

3.根据权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述抗菌膜层中所述硅氧化物的质量百分比为1％-5％。

4.根据权利要求1所述的盖板组件，其特征在于，所述过渡层还包括第三膜层，所述第三膜层设置于所述第一膜层与所述基板之间，所述第一膜层的折射率大于所述第三膜层的折射率。

5.根据权利要求4所述的基板组件，其特征在于，所述第三膜层包括二氧化硅。

6.根据权利要求5所述的基板组件，其特征在于，所述基板为玻璃基板或塑料基板。

7.根据权利要求4所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层的厚度为150nm-200nm，所述第一膜层的厚度为10nm-25nm，所述第二膜层的厚度为150nm-200nm，所述第三膜层的厚度为280nm-320nm。

8.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述抗菌膜层与所述过渡层无界面结合；所述过渡层与所述基板无界面结合。

9.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，还包括防指纹膜层，所述防指纹膜层设置在所述抗菌膜层背向所述基板的一侧。

10.根据权利要求9所述的基板组件，其特征在于，所述防指纹膜层包括含氟硅烷偶联剂；所述抗菌膜层还包括硅氧化物。

11.根据权利要求9所述的基板组件，其特征在于，所述防指纹膜层的厚度小于或等于10μm。

12.根据权利要求1所述的基板组件，其特征在于，所述基板朝向所述抗菌膜层的一侧表面的粗糙度小于0.25％，光泽度为25％-140％，雾度为1％-20％。

13.一种显示装置，其特征在于，包括：

显示面板，具有出光侧；

基板组件，所述基板组件为权利要求1-12任一项所述的基板组件，所述基板组件设置于所述显示面板的所述出光侧，且所述抗菌膜层位于所述基板背向所述显示面板的一侧。

14.一种基板组件的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在所述基板上形成第一膜层，所述第一膜层包括氮氧化硅；

在所述第一膜层上形成第二膜层，所述第二膜层包括二氧化硅；

在所述第二膜层上形成抗菌膜层，所述抗菌膜层包括硅氧化物、主体材料以及掺杂材料，所述主体材料包括氧化钛、氧化锗、氧化铈、氧化镉、氧化铜及氧化钴中的至少一者，所述掺杂材料包括锆、铅、金、铑及钯中的至少一者。

15.根据权利要求14所述的基板组件的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上形成第一膜层之前，所述制作方法还包括：

在所述基板上形成第三膜层，所述第三膜层包括二氧化硅。