[发明专利]一种用于飞机的非接触柔性清洗系统在审
申请号: | 202210281590.4 | 申请日: | 2022-03-21 |
公开(公告)号: | CN114850122A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 任相广;甄永伟 | 申请(专利权)人: | 任相广;甄永伟 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B13/00;B64F5/30 |
代理公司: | 上海中外企专利代理事务所(特殊普通合伙) 31387 | 代理人: | 孙益青 |
地址: | 266071 山东省青岛市*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 飞机 接触 柔性 清洗 系统 | ||
本发明公开了一种用于飞机的非接触柔性清洗系统,包含供飞机移动的清洗平台、清洗飞机机背的机背清洗组件、清洗飞机机腹的机腹清洗组件、总控组件、雷达传感器,所述机背清洗组件包含第一储液罐以及分别于所述第一储液罐连接的溶气式空化机组、空化炮,所述机腹清洗组件包含依次连接的第二储液罐、微纳米空化机组、空化喷头组件,所述空化喷头组件安装于所述清洗平台的顶部,所述清洗平台的两侧等距安装有多个所述雷达传感器;所述雷达传感器通过无线连接于所述总控组件进行数据交互,所述总控组件分别控制连接所述溶气式空化机组、所述空化炮、所述微纳米空化机组、所述空化喷头组件。
技术领域
本发明涉及飞机非接触柔性清洗系统领域,具体涉及一种用于飞机的非接触柔性清洗系统。
背景技术
飞机外表面由于受到来自大气、地面、燃料废气等方面的污染,外表面及部件上会沉积烟雾、灰尘、油污、积碳、氧化物和橡胶等污染物,这些污物如果不清洗,不仅会影响到飞机的外观,往往还会成为腐蚀飞机的诱因,因此需要对飞机的外表面进行清洗;
为防止飞机表面漆层受到腐蚀避免安全事故,飞机清洗剂一般需要获得民航总局航空化学产品设计/生产批准,并通过民航总局测试中心的严格检测,飞机清洗剂一般为碱性水基表面清洗剂,这类清洗剂性能优良,对飞机表面漆层和玻璃无腐蚀,并且能够兑水稀释1-30倍,性能高效环保、经济安全,清洗方式也较为简单,采用高压喷枪喷洗后再使用清洗工具进行擦洗;
由于飞机机体较大清洗难度比较高,通常都要安排数人同时进行作业,既耗时又耗力,且有些地方很难清洗作业,国内目前大多数还是人工清洗;
由于客机的高度太高,飞机表面对精度要求比较高,很多地方严禁攀爬和用硬物刮擦,通常需要用工程车搭载进行高空作业,局部区域采用高压喷枪进行清理。
发明内容
本发明要解决的技术问题是由于飞机机体较大清洗难度比较高,通常都要安排数人同时进行作业,既耗时又耗力,且有些地方很难清洗作业,国内目前大多数还是人工清洗,本发明提供一种用于飞机的非接触柔性清洗系统,能够解决传统飞机清洗技术中人工擦洗耗时耗力和高压冲洗具有损伤风险的维护难题,形成成套微纳米气泡无人化整机深度清洗系统的快速转化,实现无人化整机快速淋洗,尤其适用飞机临近海面低空飞行返航后及时的盐雾清除,有效缓解飞机腐蚀问题,大大提升战时飞机出勤率和战力,延长飞机寿命,用以解决现有技术导致的缺陷。
为解决上述技术问题本发明提供以下的技术方案:
一种用于飞机的非接触柔性清洗系统,其中,包含供飞机移动的清洗平台、清洗飞机机背的机背清洗组件、清洗飞机机腹的机腹清洗组件、总控组件、雷达传感器,所述机背清洗组件包含第一储液罐以及分别与所述第一储液罐连接的溶气式空化机组、空化炮,所述机腹清洗组件包含依次连接的第二储液罐、微纳米空化机组、空化喷头组件,所述空化喷头组件安装于所述清洗平台的底部,所述清洗平台上开设有匹配所述空化喷头组件的第一通孔,所述清洗平台的两侧等距安装有多个所述雷达传感器;
所述雷达传感器通过无线连接于所述总控组件进行数据交互,所述总控组件分别控制连接所述溶气式空化机组、所述空化炮、所述微纳米空化机组、所述空化喷头组件。
上述的一种用于飞机的非接触柔性清洗系统,其中,所述总控组件包含操作触屏、PCI控制器、低电压控制柜、高电压控制柜、主电柜,所述操作触屏控制连接所述PCI控制器,所述PCI控制器分别控制连接所述低电压控制柜、所述高电压控制柜、所述主电柜、所述空化喷头组件,所述低电压控制柜、所述高电压控制柜、所述主电柜分别与所述溶气式空化机组、所述空化炮、所述微纳米空化机组连接。
上述的一种用于飞机的非接触柔性清洗系统,其中,所述空化喷头组件包含安装于所述清洗平台底部的多个空化喷头组,所述微纳米空化机组通过第一管路连接任一个所述空化喷头组,所述空化喷头组之间通过第二管路连接,所述PCI控制器分别控制连接每个所述空化喷头组。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于任相广;甄永伟,未经任相广;甄永伟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210281590.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一株哈茨木霉及其应用
- 下一篇:草酸青霉及其应用