[发明专利]调光器件及其制备方法、调光玻璃在审
申请号: | 202210282223.6 | 申请日: | 2022-03-21 |
公开(公告)号: | CN114594627A | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 王昌银;王春雷;梁鹏;陈娟;吴小龙;翟德深;巨小倩;王瑛;李展;张思凯 | 申请(专利权)人: | 北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1339 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁;王存霞 |
地址: | 100176 北京市北京经济技术开发*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调光 器件 及其 制备 方法 玻璃 | ||
1.一种调光器件,其特征在于,包括:
相对设置的第一柔性基板和第二柔性基板;
调光层,设置在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间,所述调光层包括液晶材料;
支撑结构,设置在所述第一柔性基板和所述第二柔性基板之间,用于支撑所述第一柔性基板和所述第二柔性基板;所述支撑结构包括多个镂空区域,所述液晶材料位于所述镂空区域内。
2.根据权利要求1所述的调光器件,其特征在于,所述液晶材料包括染料液晶;
所述第一柔性基板包括依次设置的第一衬底、第一电极和第一配向层;第二柔性基板包括依次设置的第二衬底、第二电极和第二配向层,所述第二配向层位于所述第二衬底朝向所述第一配向层的一侧;
所述支撑结构靠近所述第一衬底的一端贯穿所述第一配向层与所述第一电极接触,所述支撑结构靠近所述第二衬底的一端与所述第二配向层接触。
3.根据权利要求2所述的调光器件,其特征在于,还包括粘合结构,所述粘合结构设置在所述支撑结构靠近所述第二配向层的一端,且所述粘合结构围绕所述支撑结构的轮廓设置,所述粘合结构用于粘合所述第二配向层和所述支撑结构。
4.根据权利要求3所述的调光器件,其特征在于,包括下列至少一项:
所述支撑结构包括光刻胶;
所述镂空区域的外轮廓的形状包括方形、六边形或圆形中至少一种;
所述粘合结构由含有聚合物单体的光敏混合物聚合而成,所述聚合物单体的重量百分率为8%-10%;
所述粘合结构沿垂直于所述第二衬底的方向的厚度为5纳米-30纳米。
5.根据权利要求1所述的调光器件,其特征在于,所述第一柔性基板包括依次设置的第一衬底、第一电极和第一配向层;第二柔性基板包括依次设置的第二衬底、第二电极和第二配向层,所述第二配向层位于所述第二衬底朝向所述第一配向层的一侧;
所述支撑结构靠近所述第一衬底的一端与所述第一配向层接触,所述支撑结构靠近所述第二衬底的一端与所述第二配向层接触。
6.根据权利要求5所述的调光器件,其特征在于,所述支撑结构由含有聚合物单体的光敏混合物聚合而成,所述聚合物单体的重量百分率为10%-30%。
7.一种调光玻璃,其特征在于,包括第一封装玻璃、第二封装玻璃、粘合剂和如权利要求1-6任一所述的调光器件;
所述调光器件通过所述粘合剂设置在所述第一封装玻璃和所述第二封装玻璃之间。
8.一种调光器件的制备方法,其特征在于,包括:
提供一第一柔性基底和第二柔性基底,所述第一柔性基底和所述第二柔性基底相对设置;
在所述第一柔性基底和所述第二柔性基底之间制备调光层和支撑结构;其中,所述调光层包括液晶材料,所述支撑结构包括多个镂空区域,所述液晶材料位于所述镂空区域内。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述提供一第一柔性基底和第二柔性基底,包括:
提供一第一衬底,在所述第一衬底上制备第一电极;
提供一第二衬底,在所述第二衬底上制备第二电极。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述在所述第一柔性基底和所述第二柔性基底之间制备调光层和支撑结构,包括:
通过构图工艺在所述第一电极远离所述第一衬底的一侧制备所述支撑结构,所述支撑结构与所述第一电极接触,且所述支撑结构包括多个镂空区域;
在所述第一电极远离所述第一衬底的一侧制备第一配向层,所述第一配向层在所述第一电极上的正投影位于所述镂空区域,以及在所述第二电极远离所述第二衬底的一侧制备第二配向层;
在所述第一配向层远离所述第一电极的一侧滴注液晶材料,形成调光层,在所述第二配向层远离所述第二电极的一侧制备封框胶,所述封框胶位于所述第二配向层的边缘区域;
将所述第一柔性基底形成有所述调光层的一侧与所述第二柔性基底形成有所述封框胶的一侧对盒。
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