[发明专利]一种晶间氧化样品的制备方法在审
申请号: | 202210292238.0 | 申请日: | 2022-03-23 |
公开(公告)号: | CN114778235A | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 雷娜;武甲;沈洁;张海燕;谢新艳;王明辉;杨志权;杨艳龙;赵乃胜 | 申请(专利权)人: | 北京首钢股份有限公司 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28;G01N1/32;G01N1/44 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 郭士超 |
地址: | 100040*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 样品 制备 方法 | ||
本申请涉及钢铁金相检测分析技术领域,尤其涉及一种晶间氧化样品的制备方法;所述方法:分别得到金相样品和薄金属片;将所述薄金属片与所述金相样品的待测面对齐固定,得到固定样品;将所述固定样品进行全自动热镶嵌,后进行磨抛,得到可准确检测的晶间氧化样品;其中,所述薄金属片和所述金相样品间隔设置;通过在金相样品上设置薄金属片,再通过全自动热镶嵌的方式,使薄金属片和金相样品通过镶嵌的压力而相互结合,利用薄金属片质地软和易变形的特性,从而能稳定金相样品和薄金属片接触面的边部质量,同时能消除边部微小划痕和假象,从而能提高金相样品的待检测面的质量,进而提高晶间氧化样品的制样方法对检测准确性的提升。
技术领域
本申请涉及钢铁金相检测分析技术领域,尤其涉及一种晶间氧化样品的制备方法。
背景技术
晶间氧化是指金属材料沿晶粒边界或在晶界附近发生的氧化,晶间氧化的深度是由金属表面至晶间氧化所能达到的最大深度,晶间氧化的部位使材料失去金属性,表层强度、延塑性和闭合性都大大降低,对已完成机加工的表面是极其有害的,因此及其有必要对晶间氧化的机理和控制进行深入研究。
常规金相制样方法会产生圆边、边部微小划痕、边部污染、晶间氧化假象等问题,同时晶间氧化样品的检测区域主要样品表面的几十个微米范围内,甚至更小,若采用常规的金相制样方法将无法保证检测的准确性。
因此如何提供准确检测晶间氧化样品的制样方法,是目前亟需解决的技术问题。
发明内容
本申请提供了一种晶间氧化样品的制备方法,以解决现有技术中晶间氧化样品的制样方法无法保证检测的准确性的技术问题。
第一方面,本申请提供了一种晶间氧化样品的制备方法,所述方法:
分别得到金相样品和薄金属片;
将所述薄金属片与所述金相样品的待测面对齐固定,得到固定样品;
将所述固定样品进行全自动热镶嵌,后进行磨抛,得到可准确检测的晶间氧化样品;
其中,所述薄金属片和所述金相样品间隔设置。
可选的,所述薄金属片的厚度为0.5mm~1mm。
可选的,所述薄金属片所用材质包括铜或铝。
可选的,所述金相样品的尺寸≤20mm*20mm,所述薄金属片的尺寸≤20mm*20mm。
可选的,所述金相样品的制备方法包括:
得到热轧卷;
将所述热轧卷通过剪板和铣磨进行加工,得到金相样品;
或,
将所述热轧卷通过电火花线进行切割加工,得到金相样品。
可选的,所述加工包括:以样品表面无毛刺、无变形和无油污的原则进行加工。
可选的,所述间隔设置包括第一间隔设置和第二间隔设置,所述第一间隔设置包括在所述全自动热镶嵌前的所述金相样品和所述薄金属片之间的第一间隔设置;
所述第二间隔设置包括在在所述全自动热镶嵌后的所述金相样品和所述薄金属片之间的第二间隔设置;
所述第一间隔设置的间隙≤0.2mm,所述第二间隔设置的间隙≤2μm。
可选的,所述全自动热镶嵌的流程包括先加热至预设温度,再进行镶嵌压制和保温,后冷却。
可选的,所述预设温度为120℃~180℃,所述镶嵌压制的压力为100bar~160bar,所述保温的时间≥3min,所述冷却的时间≥2min。
可选的,所述对齐固定包括以金相专用金属卡具进行对齐固定。
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