[发明专利]一种反射形貌检测投影屏变形方法、系统、设备及介质

权利要求书

1.一种反射形貌检测投影屏变形方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取目标相机拍摄待测物体反射的图案；

通过相位恢复术从所述图案中得到所述待测物体表面的相位信息；

根据所述待测物体表面的相位信息计算得到所述待测物体表面的像素坐标；

根据所述待测物体表面的像素坐标，利用最小二乘方法计算得到所述待测物体表面的拟合平面。

2.根据权利要求1所述的一种反射形貌检测投影屏变形方法，其特征在于，所述根据所述待测物体表面的相位信息计算得到所述待测物体表面的像素坐标，包括：

通过如下公式计算所述目标相机的中心像素坐标：

UV_cc＝[cx,cy,0]

其中，所述UV_cc为所述目标相机的中心像素坐标，所述cx为所述目标相机的中心像素横坐标，所述cy为所述目标相机的中心像素纵坐标；

通过如下公式将所述待测物体表面的相位信息转化为像素坐标：

UV_sp＝Pc(x,y,z)/pixelsize+UV_cc

其中，所述UV_sp为所述待测物体表面的任一点的像素坐标，所述Pc(x,y,z)为所述待测物体表面的任一点在相机坐标系中的世界坐标，所述pixelsize为像素尺寸。

3.根据权利要求1所述的一种反射形貌检测投影屏变形方法，其特征在于，所述根据所述待测物体表面的像素坐标，利用最小二乘方法计算得到所述待测物体表面的拟合平面，包括：

通过高度公式计算所述待测物体表面的高度，其中所述高度公式包括：

Z＝A+A₁x+A₂y+A₃xy+A₄x²+A₅y²+……

其中，所述Z是所述待测物体表面上坐标点(x,y)的高度，所述A,A₁,A₂,A₃,A₄,A₅为待求参数；

根据最小二乘方法得到所述高度公式的偏差的平方和公式；

根据待测物体表面的像素坐标，代入所述高度公式的偏差的平方和公式，并以所述高度公式的偏差的平方和最小为约束条件，计算得到多个方程组；

从所述多个方程组中算出所述待求参数的值；

将所述待求参数的值代入高度公式得到所述待测物体表面的拟合平面的高度；

根据所述待测物体表面的拟合平面的高度，计算得到所述待测物体表面的拟合平面。

4.根据权利要求3所述的一种反射形貌检测投影屏变形方法，其特征在于，所述高度公式为3阶10项多项式。

5.一种反射形貌检测投影屏变形系统，其特征在于，包括：

图案获取模块，用于获取目标相机拍摄待测物体反射的图案；

相位信息计算模块，用于通过相位恢复术从所述图案中得到所述待测物体表面的相位信息；

像素坐标计算模块，用于根据所述待测物体表面的相位信息计算得到所述待测物体表面的像素坐标；

拟合平面计算模块，用于根据所述待测物体表面的像素坐标，利用最小二乘方法计算得到所述待测物体表面的拟合平面。