[发明专利]用于沉积系统的高流量多通活塞/阀

权利要求书

1.一种适合与用于将膜沉积在晶片上的处理室一起使用的阀组件，其包含：

阀主体，其被构造成围绕与中心轴对齐的孔腔，其中所述阀主体包括入口、多个出口，所述多个出口中的至少一者通向所述处理室内；

活塞，其具有多个流动路径；

线性运动致动器，其适于与所述活塞耦合且构造成控制所述活塞穿过所述孔腔在多个活塞之间的线性移动，

其中，在相应的位置中，活塞被移动，使得流体通过一或多个相应的流动路径从所述入口流向一或多个出口。

2.根据权利要求1所述的阀组件，

其中在第一位置中，所述活塞与所述入口对齐，使得流体经由第一流动路径从所述入口流至第一出口，

其中在第二位置中，所述活塞与所述入口对齐，使得流体经由第二流动路径从所述入口流至第二出口。

3.根据权利要求2所述的阀组件，其中在第三位置中，所述活塞与所述入口对齐，使得流体经由第三流动路径从所述入口流至第三出口。

4.根据权利要求1所述的阀组件，其中在第一位置中，所述活塞与所述入口对齐，使得流体经由二或更多个对应出口路径从所述入口流至二或更多个出口。

5.根据权利要求1所述的阀组件，其还包含：

密封件，其位于所述活塞与所述孔腔的表面之间，其中所述密封件被构造成防止流体从所述孔腔通过所述阀主体中的所述孔腔的第一端部，所述线性运动致动器经由所述孔腔的所述第一端部耦合至所述活塞。

6.根据权利要求3所述的阀组件，其中所述密封件包含滚动式膜片。

7.根据权利要求1所述的阀组件，其还包含：

其中所述线性运动致动器包含气压缸；

活塞适配器，其构造成附接至所述活塞的基部，所述基部与所述第一区段相邻，

其中所述活塞适配器被构造成附接至所述气压缸的轴杆，所述轴杆的线性移动经过所述活塞适配器被转移至所述活塞。

8.根据权利要求1所述的阀组件，其还包含：

弹簧，其安装在所述阀主体中的所述孔腔的第二端部内，当所述线性运动致动器缩回时，所述弹簧适于将所述活塞推向所述孔腔的第一端部。

9.根据权利要求1所述的阀组件，其中经过所述入口进入所述阀组件的流体的压力高于所述孔腔内的压力，以造成流体从所述入口流至所述第一出口和所述第二出口中的一者。

10.根据权利要求1所述的阀组件，其还包含：

多因子传感器系统，其用于检测活塞状态，所述多因子传感器系统包含：

多个磁体，其在所述活塞中的多个位置处；以及

多个磁传感器，其在所述阀主体中的多个位置处，所述多个磁传感器的每一个都能够与对应磁体对齐，

其中当对应磁体和传感器对对齐时，表示所述活塞被移动至对应位置，使得流体经由一或更多对应出口路径从所述入口流至一或更多出口。

11.根据权利要求10所述的阀组件，其中当第一磁体和传感器对对齐时，表示所述活塞被移动至第一位置，使得流体经由所述第一出口路径从所述入口流至所述第一出口，

其中当第二磁体和传感器对对齐时，表示所述活塞被移动至第二位置，使得流体经由所述第二出口路径从所述入口流至所述第二出口。

12.根据权利要求10所述的阀组件，其还包含：

其中当第一磁体和传感器对对齐时，表示所述活塞被移动至对应位置，使得流体经由第一流动路径从所述入口流至第一出口的一部分以及经由第二流动路径流至第二出口的一部分。