[发明专利]用于平底水钻生产的抛光机在审
| 申请号： | 202210298829.9 | 申请日： | 2022-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN114670107A | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | 周志炎;叶卫 | 申请（专利权）人： | 湖北宇星水钻饰品有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B27/00;B24B41/06;B24B41/02;B24B41/00 |
| 代理公司： | 武汉惠创知识产权代理事务所(普通合伙) 42243 | 代理人： | 吴平兰 |
| 地址： | 435500 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 平底 水钻 生产 抛光机 | ||
1.用于平底水钻生产的抛光机，包括沿左右向设置的机架、机架两端的两个夹具平转结构和机架前后两侧的两条抛光生产线，两条抛光生产线反向设置且通过两个夹具平转结构构成环形，所述抛光生产线包括在左右向依次设置的上粉工位(7)、上料工位(8)、磨抛工位、加热工位(15)和卸钻工位(16)，所述夹具平转结构位于卸钻工位(16)与另一侧的上粉工位(7)之间；其特征在于，所述夹具(17)的夹具针在磨抛工位进行60°分度旋转；所述磨抛工位包括沿夹具(17)的输送方向依次设置的大刻面粗磨工位(9)、大刻面细磨工位(10)、大刻面第一抛光工位(11)、大刻面第二抛光工位(12)、小刻面磨削工位(13)和小刻面抛光工位(14)；在大刻面粗磨工位(9)、大刻面细磨工位(10)、大刻面第一抛光工位(11)和大刻面第二抛光工位(12)处，所述夹具(17)的进给角度为46±0.5°；在小刻面磨削工位(13)和小刻面抛光工位(14)处，所述夹具(17)的进给角度为51.7±0.5°。
2.根据权利要求1所述的用于平底水钻生产的抛光机，其特征在于，所述大刻面粗磨工位(9)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径大于大刻面细磨工位(10)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径，所述小刻面磨削工位(13)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径与大刻面细磨工位(10)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径相同。
3.根据权利要求2所述的用于平底水钻生产的抛光机，其特征在于，所述大刻面粗磨工位(9)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径为400目，所述大刻面细磨工位(10)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径为600目，所述小刻面磨削工位(13)的滚筒(18)表面的金刚砂粒径为600目。
4.根据权利要求1所述的用于平底水钻生产的抛光机，其特征在于，所述大刻面第一抛光工位(11)的滚筒(18)、大刻面第二抛光工位(12)的滚筒(18)和小刻面抛光工位(14)的滚筒(18)的表面粗糙度相同。
5.根据权利要求1所述的用于平底水钻生产的抛光机，其特征在于，在大刻面粗磨工位(9)、大刻面细磨工位(10)、大刻面第一抛光工位(11)和大刻面第二抛光工位(12)处，所述夹具(17)的进给角度为46°；在小刻面磨削工位(13)和小刻面抛光工位(14)处，所述夹具(17)的进给角度为51.7°。
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