[发明专利]一种阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统

权利要求书

1.一种阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：包依次连通的进水口、沉淀系统、清水池及出水口，所述沉淀系统包括电性连接的金属阴极和阳极，工作时，沉淀系统内电解质为含有氯化钠的溶液。

2.根据权利要求1所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述沉淀系统包括相互连通的电解装置和沉淀池，所述电解装置包括电解池及设置于所述电解池内的金属阴极和尺稳阳极，所述电解池的出水口与沉淀池连通。

3.根据权利要求1所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述金属阴极为铝板、镁板、锌板中的任一种；所述阳极为DSA尺稳阳极、镀铂钛阳极、掺硼金刚石电极、石墨电极中的任一种。

4.根据权利要求2所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述电解池的出水口处设置有出水阀。

5.根据权利要求2所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述清水池与电解池之间通过管道连通，清水池和电解池之间设置有药剂箱。

6.根据权利要求5所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述药剂箱和电解池内均设置有水位控制器。

7.根据权利要求2所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述沉淀池由两块隔板分为并排设置的第一沉淀区、第二沉淀区和第三沉淀区，隔板的底部与沉淀池的底部之间为非封闭设置，其中第一沉淀区与电解池连通，第三沉淀区与清水池连通。

8.根据权利要求7所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述第二沉淀区内有多个平行设置的斜板。

9.根据权利要求2所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：所述沉淀池的底部设置为V型斗。

10.根据权利要求2所述的阴极电絮凝和电氧化过程耦合的同步去除N-P-COD的水处理系统，其特征在于：工作时，电解池内氯化钠的浓度为0.1-2mol/L。