[发明专利]一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构

权利要求书

1.一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，包括真空腔，真空腔内设置放卷轴和收卷轴，放卷轴和收卷轴之间设有若干输送辊,放卷轴和收卷轴之间沿输送辊收放并从前向后输送基底，其特征在于：所述基底的卷面朝下输送并经过若干蒸镀区，对于单一蒸镀区，蒸镀区设置在相邻输送辊之间，所述蒸镀区在基底下方设有导流罩，所述导流罩顶面开口，导流罩下部设置硒源及金属源，所述蒸镀区在基底的上方设有上罩，所述上罩与导流罩在基底左右两侧扣合封闭，所述导流罩顶面与基底底面在前后两侧留有溢流间隙，相邻蒸镀区的导流罩前后相邻侧壁之间留空形成与真空腔连通的抽吸间隙。

2.根据权利要求1所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述输送辊在放卷轴和收卷轴下方呈弧形排列，所述基底沿输送辊呈下凹的弧形输送，所述导流罩的顶面与对应段的基底平行。

3.根据权利要求1所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述导流罩为方形罩体。

4.根据权利要求1所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述蒸镀区在基底上方设有对基底加热的加热片，所述加热片设置在上罩的内侧或下方。

5.根据权利要求1或2或3所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述硒源和金属源设有向上的蒸汽喷口，所述蒸汽喷口为从下向上扩展的喇叭口。

6.根据权利要求5所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述蒸汽喷口的喇叭口倾斜角度不超过蒸汽喷口与导流罩上表面各侧边连线的倾斜角度。

7.根据权利要求1或2或3所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述金属源为铜源、铟源、镓源和铟镓源中的一种或多种。

8.根据权利要求1或2或3所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述硒源和所述金属源均采用上加热下冷却模式形成蒸发羽流，即硒源和金属源的上方采用电热板辐射加热、硒源和金属源的下方采用冷却液降温，形成上热下冷的表面蒸发羽流。

9.根据权利要求1或2或3所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述上罩设置在相邻的输送辊之间，上罩两侧设有避让输送辊的弧形槽缺。

10.根据权利要求1或2或3所述的一种柔性卷对卷铜铟镓硒蒸发羽流控制结构，其特征在于：所述真空腔的前后两侧分别设有抽真空设备。