[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202210316980.0 申请日: 2022-03-28
公开(公告)号: CN114709344A 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 李杰;史大为;张伟;许桐伟;齐智坚;卢玉群 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 王云红;翟姝红
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,其特征在于,包括:

衬底基板,包括第一区以及围绕所述第一区的第二区;

第一无机层,位于所述衬底基板的一侧,所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧开设有多个第一隔离槽和多个第二隔离槽,多个所述第一隔离槽和多个所述第二隔离槽位于所述第二区,且沿所述第二区指向所述第一区的方向间隔排布;

第一有机层,位于所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧,所述第一有机层至少填充所述第一隔离槽以形成多个第一阻挡坝;

第二有机层,包括位于所述第一有机层的背离所述衬底基板一侧的第一部分;

第二无机层,至少连续覆盖所述第一有机层的朝向所述第一区的侧壁和所述第一部分的朝向所述第一区的侧壁。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第二无机层还至少覆盖邻近所述第一有机层的第二隔离槽的第一侧壁,所述第一侧壁为所述第二隔离槽邻近所述第一有机层一侧的侧壁。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第二有机层还包括第二部分,所述第二部分位于所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧,所述第二部分在所述衬底基板上的正投影位于所述第一区;所述第二无机层还连续覆盖多个所述第二隔离槽的表面以及所述第二部分的朝向所述第二区的侧壁。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第二无机层在所述第二隔离槽的内部限定出中间隔离槽;

所述显示基板还包括:

填充层,位于所述第二无机层的背离所述衬底基板的一侧,所述填充层至少填充所述中间隔离槽以形成多个第二阻挡坝。

5.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述第一区包括显示区,所述第二区为边缘区;所述第二部分在所述衬底基板上的正投影在所述显示区范围内,所述第一无机层与所述第二部分之间设置金属走线,所述金属走线在所述衬底上的正投影位于所述显示区。

6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述第一区还包括绑定区,所述绑定区位于所述显示区的一侧,所述第二部分在所述衬底基板上的正投影覆盖所述绑定区,所述第一无机层与所述第二部分之间设置绑定引脚,所述绑定引脚在所述衬底基板上的正投影位于所述绑定区。

7.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至6中任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底基板的一侧形成第一无机层,所述衬底基板包括第一区以及围绕所述第一区的第二区;

在所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧开设多个第一隔离槽和多个第二隔离槽,多个所述第一隔离槽和多个所述第二隔离槽位于所述第二区,且沿所述第二区指向所述第一区的方向间隔排布;

在所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧形成第一有机层,所述第一有机层至少填充所述第一隔离槽以形成多个第一阻挡坝;

在所述第一有机层的背离所述衬底基板的一侧形成第二有机层,所述第二有机层包括第一部分,所述第一部分位于所述第一有机层的背离所述衬底基板的一侧;

在所述第二有机层的背离所述衬底基板的一侧形成第二无机层,以使所述第二无机层至少连续覆盖所述第一有机层的朝向所述第一区的侧壁和所述第一部分的朝向所述第一区的侧壁。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述第二无机层还至少连续覆盖邻近所述第一有机层的第二隔离槽的第一侧壁,所述第一侧壁为所述第二隔离槽邻近所述第一有机层一侧的侧壁。

10.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述第二有机层还包括第二部分,所述第二部分位于所述第一无机层的背离所述衬底基板的一侧,并且在所述衬底基板上的正投影位于所述第一区;所述第二无机层连续覆盖所述第二隔离槽的表面及所述第二部分的朝向所述第二区的侧壁以在所述第二隔离槽的内部限定出中间隔离槽,所述制备方法还包括:

在所述第一有机层的背离所述衬底的一侧以及所述第一无机层的背离所述衬底的一侧形成填充层,所述填充层至少填充所述中间隔离槽以形成多个第二阻挡坝。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210316980.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top