[发明专利]一种利用扭曲扰动产生抗湍流扰动的多模高阶涡旋光的方法在审
申请号: | 202210319912.X | 申请日: | 2022-03-29 |
公开(公告)号: | CN114675416A | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 陈君;戚国震 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | G02B27/00 | 分类号: | G02B27/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 扭曲 扰动 产生 湍流 多模高阶 涡旋 方法 | ||
1.一种利用扭曲扰动产生抗湍流扰动的多模高阶涡旋光的方法,其特征包括以下步骤:
(A)产生单模涡旋光束,其波函数可以表示为U(x,y,L),其中L为拓扑荷数;x,y为光场中任意空间点的坐标;利用漂移扰动,对该单模涡旋光束引入扭曲扰动,扰动表达式为:
其中μ0为扭曲因子;α是一个常数;(aj,bj)为扰动中心坐标;下标j为扰动中心的编号;
(B)构造大量具有不同扰动中心的离轴单模涡旋光束U(x-ai,y-bi,L);控制该子光束的附加相位,使它们通过非相干叠加形成扭曲扰动的单模高阶涡旋光场Ek(x,y,L),其瞬时表达式为:
其中N为子光束阵列的数量;φj为附加相位,其值在0~2π之间随机分布;下标k为该时刻编号;
(C)非相干叠加若干个具有扭曲扰动的单模高阶涡旋光场,形成多模高阶涡旋光光场Ek(x,y),其瞬时表达式为:
Ek(x,y)=Ek(x,y,L1)+Ek(x,y,L2)+…+Ek(x,y,Ln)
其中L1,L2……Ln为不同的拓扑荷数;
(D)将多个瞬时场Ek(x,y)在时间轴上进行非相干叠加,得到具有抗湍流扰动的多模高阶涡旋光:E(x,y)=∑kexp(iθk)Ek(x,y),其中θk是随机相位。
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