[发明专利]一种像素在审

专利信息
申请号: 202210321942.4 申请日: 2018-02-08
公开(公告)号: CN114613334A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 朴埈贤;徐荣完;李安洙;郑宝容;赵康文;蔡钟哲 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G09G3/3258 分类号: G09G3/3258;G09G3/3266
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 梁洪源;康泉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 像素
【权利要求书】:

1.一种像素,包括:

第一晶体管,所述第一晶体管包括连接到第一节点的栅电极、接收第一电源电压的第一电极和连接到第二节点的第二电极;

第二晶体管,所述第二晶体管包括接收扫描信号的栅电极、连接到所述第一节点的第一电极和连接到第三节点的第二电极;

第三晶体管,所述第三晶体管包括接收公共控制信号的栅电极、连接到所述第三节点的第一电极和连接到所述第二节点的第二电极;

有机发光二极管,所述有机发光二极管包括连接到所述第二节点的第一电极和接收第二电源电压的第二电极;

第一电容器,所述第一电容器包括接收初始化电压的第一电极和连接到所述第一节点的第二电极;以及

第二电容器,所述第二电容器包括接收数据信号的第一电极和连接到所述第三节点的第二电极,

其中,在所述第一电源电压具有低电压电平、所述第二电源电压具有高电压电平并且所述第三晶体管响应于所述公共控制信号而处于导通状态的时段期间,所述初始化电压在第一初始化电压电平和低于所述第一初始化电压电平的第二初始化电压电平之间摆动,并且

其中,在所述初始化电压具有所述第二初始化电压电平的时段期间,所述第二晶体管响应于所述扫描信号而从截止状态切换到导通状态。

2.根据权利要求1所述的像素,其中,在所述第一电源电压具有所述低电压电平、所述第二电源电压具有低电压电平、所述第二晶体管响应于所述扫描信号而处于所述截止状态并且所述第三晶体管响应于所述公共控制信号而处于截止状态的时段期间,所述初始化电压在所述第一初始化电压电平和所述第二初始化电压电平之间摆动。

3.根据权利要求1所述的像素,其中,在所述第一电源电压具有高电压电平、所述第二电源电压具有所述高电压电平、所述第二晶体管响应于所述扫描信号而处于所述截止状态并且所述第三晶体管响应于所述公共控制信号而处于截止状态的时段期间,所述初始化电压在所述第一初始化电压电平和所述第二初始化电压电平之间摆动。

4.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管和所述第三晶体管是低温多晶硅薄膜晶体管。

5.根据权利要求4所述的像素,其中,所述第二晶体管和所述第三晶体管是p沟道金属氧化物半导体晶体管。

6.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管和所述第三晶体管是氧化物薄膜晶体管。

7.根据权利要求6所述的像素,其中,所述第二晶体管和所述第三晶体管是n沟道金属氧化物半导体晶体管。

8.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管是低温多晶硅薄膜晶体管,并且所述第三晶体管是氧化物薄膜晶体管。

9.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管是p沟道金属氧化物半导体晶体管,并且所述第三晶体管是n沟道金属氧化物半导体晶体管。

10.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管是氧化物薄膜晶体管,并且所述第三晶体管是低温多晶硅薄膜晶体管。

11.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第二晶体管是n沟道金属氧化物半导体晶体管,并且所述第三晶体管是p沟道金属氧化物半导体晶体管。

12.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第一晶体管是低温多晶硅薄膜晶体管。

13.根据权利要求12所述的像素,其中,所述第一晶体管是p沟道金属氧化物半导体晶体管。

14.根据权利要求1所述的像素,其中,所述第一晶体管是氧化物薄膜晶体管。

15.根据权利要求14所述的像素,其中,所述第一晶体管是n沟道金属氧化物半导体晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210321942.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top