[发明专利]显示装置及显示装置的阵列基板在审

专利信息
申请号: 202210328226.9 申请日: 2022-03-30
公开(公告)号: CN115202112A 公开(公告)日: 2022-10-18
发明(设计)人: 尾关芳孝;上岛诚司 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1335
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 马强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 阵列
【说明书】:

发明涉及一种显示装置,即使使像素高精细化也能够精密地控制开口率。显示装置具有:第一基板;设置于第一基板的至少一个像素;设置于第一基板的第一遮光层;第二基板;以及设置于第二基板的第二遮光层,第一遮光层在第一方向上延伸,第二遮光层在与第一方向相交的第二方向上延伸,至少一个像素由第一遮光层和第二遮光层划定开口部。

技术领域

本发明一个实施方式涉及一种显示装置的像素的结构。

背景技术

液晶面板设置有遮光膜,以使从外部入射的光在内部反复进行多重反射而不会对开关元件(薄膜晶体管)的动作产生影响。设置于显示面板的遮光膜的结构及配置是各种各样的。例如,日本特开平10-206889号公报中公开了一种显示装置,该显示装置由金属膜及黑色化的透明导电膜形成设置于形成有开关元件的基板的遮光膜以及设置于对置基板的黑色矩阵。

显示面板通常与彩色显示对应,一个像素包括与红色对应的第一子像素、与绿色对应的第二子像素、与蓝色对应的第三子像素。各子像素的开口率不一定相同,考虑颜色平衡来调整开口比率。该开口比率的调整通过改变形成有滤色器的对置基板侧的遮光膜(也被称为黑色矩阵)的图案形状来进行。对置基板侧的遮光膜通常由包含黑色颜料的树脂材料形成。

如果将像素高精细化,则遮光膜的图案也需要微细化。但是,由树脂材料形成的遮光膜存在难以进行微细加工的问题。遮光膜根据子像素的配置而具有格子状的图案,但是难以以锐利的角度形成角部,形成开口部的角部成为弯曲的形状,存在实际的开口部相比设计值缩小的问题。

此外,由于将形成有遮光膜的对置基板与形成有像素阵列的阵列基板贴合时的对准误差,存在开口率受到影响的问题。由于这些问题,存在各子像素的开口率发生不一致,颜色平衡在每个面板中发生不一致的问题。

发明内容

本发明的一个实施方式是鉴于如上所述的问题而提出的,其目的之一在于提供显示装置,即使使像素高精细化也能够精密地控制开口率。

本发明的一个实施方式所涉及的显示装置具有:第一基板;设置于第一基板的至少一个像素;设置于第一基板的第一遮光层;第二基板;以及设置于第二基板的第二遮光层,第一遮光层在第一方向上延伸,第二遮光层在与第一方向相交的第二方向上延伸,至少一个像素由第一遮光层和第二遮光层划定开口部。

附图说明

图1是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的第一基板侧的构成的剖视图。

图2是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素的构成的剖视图。

图3是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部的构成的俯视图。

图4是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的第一子像素、第二子像素及第三子像素的构成的俯视图。

图5是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部的构成的俯视图。

图6是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的第一遮光层的构成的俯视图。

图7是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的半导体层的构成的俯视图。

图8是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的扫描信号线的构成的俯视图。

图9是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的数据信号线的构成的俯视图。

图10是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的连接电极的构成的俯视图。

图11是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的像素电极的构成的俯视图。

图12是示出本发明的一个实施方式所涉及的显示装置的像素部处设置的公共辅助电极的构成的俯视图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本显示器,未经株式会社日本显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210328226.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top