[发明专利]光学系统以及光学设备在审

专利信息
申请号: 202210330070.8 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN114859507A 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 山下雅史;伊藤智希;籔本洋;山本浩史;三轮哲史;坪野谷启介;槙田步;上原健 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B15/14
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 季莹;方应星
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学系统 以及 光学 设备
【说明书】:

本发明提供一种光学系统以及光学设备。光学系统(LS)具备满足以下条件式的透镜(L22、L33):νdLZ35.0、0.702θgFLZ+(0.00316×νdLZ)其中,νdLZ:透镜的以d线为基准的阿贝数,θgFLZ:透镜的相对部分色散,在设透镜的对g线的折射率为ngLZ、设透镜的对F线的折射率为nFLZ、设透镜的对C线的折射率为nCLZ时,通过下式被定义,θgFLZ=(ngLZ‑nFLZ)/(nFLZ‑nCLZ)。

本申请是国际申请日为2017年12月15日、国际申请号为PCT/JP2017/045188、国家申请号为201780097705.1、发明名称为“光学系统以及光学设备”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法。

背景技术

近年来,在数码相机和摄像机等拍摄装置中使用的拍摄元件正在推进高像素化。设置于使用了这种拍摄元件的拍摄装置的摄影镜头优选为如下的镜头:除了球面像差、彗差等基础像差(单一波长的像差)以外,还良好地对色差进行校正,以在白色光源下在像的颜色中没有模糊,且具有高分辨率。特别是,优选的是,在色差的校正中,除了初级消色差以外,还良好地校正二级光谱。作为校正色差的手段,例如公知有使用具有反常色散特性的树脂材料的方法(例如,参照专利文献1)。如上所述,伴随近年来的拍摄元件的高像素化,期望实现良好地对各像差进行了校正的摄影镜头。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2016-194609号公报

发明内容

第1方式的光学系统具有满足以下条件式的透镜:

νdLZ35.0

0.702θgFLZ+(0.00316×νdLZ)

其中,νdLZ:所述透镜的以d线为基准的阿贝数

θgFLZ:所述透镜的相对部分色散,在设所述透镜的对g线的折射率为ngLZ、设所述透镜的对F线的折射率为nFLZ、设所述透镜的对C线的折射率为nCLZ时,通过下式被定义,

θgFLZ=(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。

第2方式的光学设备,构成为具备上述光学系统。

第3方式的光学系统的制造方法,以具有满足以下条件式的透镜的方式,在镜头镜筒内配置各透镜:

νdLZ35.0

0.702θgFLZ+(0.00316×νdLZ)

其中,νdLZ:所述透镜的以d线为基准的阿贝数

θgFLZ:所述透镜的相对部分色散,在设所述透镜的对g线的折射率为ngLZ、设所述透镜的对F线的折射率为nFLZ、设所述透镜的对C线的折射率为nCLZ时,通过下式被定义,

θgFLZ=(ngLZ-nFLZ)/(nFLZ-nCLZ)。

附图说明

图1是第1实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图2是第1实施例的光学系统的无限远对焦状态下的各像差图。

图3是第2实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

图4(A)、图4(B)以及图4(C)分别是第2实施例的光学系统的广角端状态、中间焦距状态、远焦端状态下的无限远对焦时的各像差图。

图5是第3实施例的光学系统的无限远对焦状态下的透镜结构图。

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