[发明专利]一种去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统和水处理工艺

权利要求书

1.一种去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，包括：

预处理装置、混凝沉淀装置、过滤装置、紫外消毒装置，所述预处理装置、所述混凝沉淀装置、所述过滤装置、所述紫外消毒装置依次连接设置，所述过滤装置包括过滤层，所述过滤层填有滤层填料，所述滤层填料中富集有去除所述2-甲基异莰醇的微生物；

所述预处理装置用于投加高锰酸钾对原水进行预氧化；当原水中2-甲基异莰醇含量较高时，还用于应急投加粉末活性炭，辅助高锰酸钾对原水进行预氧化；

所述混凝沉淀装置用于使原水中的藻类形成絮体，所述絮体再经过沉淀后去除；

所述过滤装置用于通过所述微生物降解原水中2-甲基异莰醇；

所述紫外消毒装置用于对所述过滤装置处理后的水进行消毒。

2.根据权利要求1所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述自来水厂给水处理系统还包括氯消毒装置，所述氯消毒装置用于在用所述紫外消毒装置消毒后的水中投加适量无机氯，所述无机氯为液氯、次氯酸钠、二氧化氯中的一种。

3.根据权利要求1所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述过滤装置还包括反冲洗系统，所述反冲洗系统用于对所述过滤装置进行反复冲洗。

4.根据权利要求3所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述自来水厂给水处理系统还包括废水处理装置，所述废水处理装置与所述过滤装置连接设置，所述废水处理装置用于对所述过滤装置进行反复冲洗后的水进行收集、沉淀，沉淀后的水可以回用至原水。

5.根据权利要求4所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述废水处理装置还与所述混凝沉淀装置连接设置，所述废水处理装置还用于对所述混凝沉淀装置排出的泥水进行收集，然后对所述泥水进行浓缩、脱水处理，上清液、脱滤液排入市政污水管道。

6.根据权利要求1所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述过滤装置是普通快滤池、V型滤池、翻板滤池、虹吸滤池中的一种。

7.根据权利要求1所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述自来水厂给水处理系统还包括混凝剂投加单元，所述混凝剂投加单元与所述混凝沉淀装置连接设置，所述混凝剂投加单元用于向所述混凝沉淀装置中投加混凝剂。

8.根据权利要求1所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述紫外消毒装置采用低压高强或中压高强紫外灯，消毒强度不低于40mJ/cm²。

9.使用权利要求1～8任一项所述的去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统的水处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将高锰酸钾投加到所述预处理装置中，对所述预处理装置中的原水进行预氧化；

S2、经过预氧化的原水通过所述预处理装置的出水口进入到所述混凝沉淀装置，向所述混凝沉淀装置中投加所述混凝剂，所述混凝沉淀装置中的原水与所述混凝剂进行混合反应，使原水中的藻类形成絮体，絮体再经过沉淀后去除；

S3、所述混凝沉淀装置处理后的原水通过出水口进入所述过滤装置中，所述过滤装置进一步去除原水中的颗粒物，同时利用所述滤层填料中驯化的去除2-甲基异莰醇的所述微生物去除原水中的2-甲基异莰醇；

S4、所述过滤装置处理后的原水通过出水口进入所述紫外消毒装置中，所述紫外消毒装置中，用于对过滤后的原水中的所述微生物进行灭菌。

10.根据权利要求9所述的水处理工艺，其特征在于，所述S1中，当在原水中2-甲基异莰醇浓度在50ng/L以上时，还用于应急投加粉末活性炭，辅助高锰酸钾对原水进行预氧化。