[发明专利]一种旋转磁场二次流的控制方法

权利要求书

1.一种旋转磁场二次流的控制方法，采用一种复合磁场的电磁搅拌生成装置，所述装置包括：

旋转磁场发生装置(100)，所述旋转磁场发生装置(100)包括环形壳体(101)、旋转磁场线圈(102)和铁芯(103)；所述铁芯(103)具有多组，在环形壳体(101)的内侧壁上沿周向均匀布置，每组铁芯(103)上均固定有旋转磁场线圈(102)，所述旋转磁场线圈(102)的中轴线垂直于环形壳体(101)的中轴线；

时变磁场发生装置(200)，所述时变磁场发生装置(200)包括时变磁场线圈(201)；所述时变磁场线圈(201)设置于旋转磁场发生装置(100)内，与所述环形壳体(101)同轴设置；

其特征在于：包括以下步骤：

一、安装装置

将所述电磁搅拌生成装置套装在铸造过程中熔体(300)通过或停留的区域的外侧；

二、开启电磁场

开启旋转磁场和时变磁场，使熔体(300)通过电磁搅拌生成装置或停留在电磁搅拌生成装置内，进行电磁搅拌。

2.根据权利要求1所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：当进行液态铸造时，所述时变磁场线圈(201)为一个整体，所述时变磁场线圈(201)的中心与所述旋转磁场线圈(102)的中心处于同一高度。

3.根据权利要求2所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述旋转磁场电流峰值I_t与时变磁场电流峰值I_p满足关系式：I_t:I_p4:375。

4.根据权利要求3所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述时变磁场线圈(201)的匝数不小于5匝。

5.根据权利要求4所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述电磁搅拌生成装置的安装区域的熔体(300)的中心与所述时变磁场线圈(201)的中心处于同一高度。

6.根据权利要求1所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：当进行半固态铸造时，所述时变磁场线圈(201)为分别设置在熔体(300)所在区域的上部和下部的结构相同的上部线圈和下部线圈，所述上部线圈和下部线圈之间具有间隙。

7.根据权利要求6所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述旋转磁场电流峰值I_t与时变磁场电流峰值I_p满足关系式：I_t:I_p7:300。

8.根据权利要求7所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述上部线圈的匝数不小于3匝。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述电磁搅拌生成装置的安装区域的熔体(300)的中轴线与所述时变磁场线圈(201)的中轴线重合。

10.根据权利要求1-8中任意一项所述的一种旋转磁场二次流的控制方法，其特征在于：所述铁芯(103)具有至少5组。