[发明专利]一种具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202210359297.5 申请日: 2022-04-06
公开(公告)号: CN114591500A 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 孙腾;李晨;龙鑫;王庆印;王公应;刘绍英 申请(专利权)人: 中国科学院成都有机化学有限公司
主分类号: C08G64/30 分类号: C08G64/30;C08K9/04;C08K3/34;C08L69/00
代理公司: 成都智言知识产权代理有限公司 51282 代理人: 李勇
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 纳米 尺寸 双折射 光学 聚碳酸酯 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法,其特征在于所述方法是分别采用两种含芴结构的二羟基化合物和碳酸二酯化合物通过熔融酯交换法合成两种聚碳酸酯低聚物,然后将两种不同的低聚物混合反应,反应过程中将纳米材料低压喷散的方式分散到聚合物中与所得低聚物一起共混,进行缩聚反应,待达到所需粘度后终止反应,得到所述至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯;

所述方法中含芴结构的二羟基化合物选自9,9-双[4-(2-羟乙氧基)苯基]芴、9,9’-双[6-(2-羟乙氧基)萘基]芴、9,9’-双[4-(2-羟丙氧基)苯基]芴、9,9’-双[4-(2-羟丁氧基)苯基]芴、9,9’-双[4-(2-羟乙氧基-3-甲基)苯基]芴、9,9’-双[4-(2-羟乙氧基-3-苯基)苯基]芴中的两种;

所述方法中采用的纳米材料为有机改性的蒙脱土,所述有机改性的蒙脱土的有机改性剂为长链烷基铵盐、氨基酸;

所述的方法中有机改性的蒙脱土改性方法为:首先将蒙脱土和去离子水,搅拌升温至40℃~90℃,然后加入一定量的有机改性剂,反应5h,然后抽滤沉淀得到固体,然后再洗涤数次,真空100℃烘干24h。

2.如权利要求1所述的一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法,其特征在于所述长链烷基铵盐为十六或十八烷基三甲基溴化铵。

3.如权利要求1所述的一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法,其特征在于所述方法中酯交换反应温度为140℃~220℃,压力为3000Pa~10000Pa,缩聚反应反应温度为220℃~260℃,压力为10Pa~2000Pa,合成聚碳酸酯的数均分子量为8000~480000。

4.如权利要求1所述的一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法,其特征在于所述方法中二羟基化合物与碳酸二酯化合物摩尔比为0.95~1.05。

5.如权利要求1-4任一项所述的一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法,其特征在于所述方法中使用纳米氧化锌、纳米氧化镁、硫化锌中的一种或多种作为聚碳酸酯酯化反应催化剂。

6.如权利要求1-5所述的一种至少在一维方向上具有纳米尺寸的低双折射光学级聚碳酸酯的制备方法制备的聚碳酸酯。

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