[发明专利]清洁基站有效
申请号: | 202210360584.8 | 申请日: | 2022-04-07 |
公开(公告)号: | CN114699027B | 公开(公告)日: | 2023-10-17 |
发明(设计)人: | 王李强;舒善平 | 申请(专利权)人: | 深圳瑞科时尚电子有限公司 |
主分类号: | A47L11/40 | 分类号: | A47L11/40 |
代理公司: | 北京智信禾专利代理有限公司 11637 | 代理人: | 王昭智 |
地址: | 518112 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 基站 | ||
1.一种清洁基站,用于对自移动设备进行清洁,其特征在于,包括:
基站本体(1);
容纳腔(11),所述容纳腔(11)设置在所述基站本体(1)的下方,所述容纳腔具有水平设置的开口,自移动设备能够从所述开口进入所述容纳腔;
箱体(2),所述箱体(2)位于所述基站本体(1)的上方;所述箱体(2)包括横向排列且固定设置在基站本体(1)上方的清水箱(21)、清洁液箱(22)、污水箱(23);其中,所述污水箱(23)用于容纳污水,并被构造为用于连接外部排污口;所述清洁液箱(22)被构造为用于容纳清洁液;所述清水箱(21)用于容纳清水,并被构造为用于连接外部水源;
动力装置(3),所述动力装置(3)设置在所述箱体(2)与容纳腔(11)之间,且位于基站本体(1)后方的位置,所述动力装置(3)被构造为用于将液体在容纳腔(11)以及箱体(2)之间进行输送。
2.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于:以自移动设备进入容纳腔(11)的方向记为X轴方向,以基站本体(1)的高度方向记为Z轴方向,以垂直于X轴、Z轴的方向记为Y轴方向;所述清水箱(21)、清洁液箱(22)、污水箱(23)被构造为在Y轴方向上排布。
3.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于:还包括尘桶组件(4),所述尘桶组件(4)设置在所述基站本体(1)上位于所述箱体(2)和容纳腔(11)之间的位置;所述动力装置(3)设置在位于所述尘桶组件(4)后方的位置。
4.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于:还包括汇合区,所述汇合区被构造为与所述清水箱(21)、清洁液箱(22)连通;所述清水箱(21)、清洁液箱(22)中的清水、清洁液被配置为在汇合区中汇合后流向所述容纳腔(11)。
5.根据权利要求4所述的清洁基站,其特征在于:所述动力装置(3)包括第一动力组件(31)、第二动力组件(32);所述第一动力组件(31)被配置为将清水箱(21)中的清水泵入汇合区,所述第二动力组件(32)被配置为将清洁液箱(22)中的清洁液泵入汇合区。
6.根据权利要求4所述的清洁基站,其特征在于:所述汇合区包括水平布置的连通管(5),所述连通管(5)上设置的至少一个出口被构造为使汇合后的液体流向所述容纳腔(11)。
7.根据权利要求6所述的清洁基站,其特征在于:所述连通管(5)包括:
主管道(51),所述主管道(51)被构造为在水平方向上延伸;
第一进液管(52),所述第一进液管(52)分别与所述清水箱(21)及主管道(51)连通,且被构造为在高度方向上延伸;
第二进液管,所述第二进液管分别与所述清洁液箱(22)及主管道(51)连通,且被构造为在水平方向上延伸;
所述第一进液管(52)、第二进液管设置在所述连通管(5)同一截面位置。
8.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于:在所述容纳腔(11)中设置有由底壁和侧壁围成的污水槽(12),在所述污水槽(12)中设置有用于支撑所述自移动设备的抹布盘的支撑部(13),在支撑部(13)的端面上设置有多个用于与所述自移动设备的抹布盘接触配合的凸起部(130);所述自移动设备的抹布盘被构造为在所述凸起部(130)的接触配合下转动。
9.根据权利要求8所述的清洁基站,其特征在于:所述支撑部(13)由污水槽(12)的后侧侧壁延伸至所述污水槽(12)的前侧侧壁,在所述支撑部(13)上设置有缺口,以缺口为界,所述支撑部(13)分为邻近所述污水槽(12)后侧一侧的第一支撑部(131),以及邻近所述污水槽(12)前侧的第二支撑部(132);至少在所述第一支撑部(131)的相对两侧还设置有围挡(133),所述围挡(133)在所述第一支撑部(131)的端面上形成了流水通道(134),所述凸起部(130)排布在所述流水通道(134)中。
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