[发明专利]一种低雾度聚酯薄膜及制备方法

说明书

本发明公开了一种低雾度聚酯薄膜，为共挤膜，共挤膜包括第一表层和第二表层及夹设于第一表层和第二表层之间的基膜，基膜、第一表层和第二表层的材质均为PET，第一表层均匀分布有第一无机颗粒，第二表层均匀分布有第二无机颗粒，第一无机颗粒的粒径为10~120nm，第二无机颗粒的粒径为0.5~5μm。该共挤低雾度聚酯薄膜通过第一表层和第二表层中分别均匀分布有第一无机颗粒和第二无机颗粒，且第一无机颗粒小于第二无机颗粒，提高光线的透光率，降低光线偏离降低雾度。

技术领域

本发明涉及光学膜技术领域，具体涉及一种低雾度聚酯薄膜及制备方法。

背景技术

聚酯薄膜在光学方面应用性能要求更高，除具备良好的机械强度、热稳定性等基本特性外，兼有低雾度、高透光率和高洁净性等优异的光学性能，可制成功能性光学薄膜，广泛应用于液晶显示面板、柔性显示屏和控制面板等。聚酯薄膜作为光学领域的基膜，为满足优异的光学性能和薄膜加工性能要求，调整薄膜的表面结构、改善薄膜的物理性能(如表面摩擦系数、阻燃性和力学性能)和有利于薄膜的后加工(防粘连)，往往需加入一定量的助剂和辅料，但是其加入会对聚酯薄膜的透明性有所影响。

发明内容

本发明的目的之一在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种低雾度聚酯薄膜，通过第一表层和第二表层中分别均匀分布有第一无机颗粒和第二无机颗粒，且第一无机颗粒小于第二无机颗粒，提高光线的透光率，降低光线偏离降低雾度。

为了实现上述工艺效果，本发明的技术方案为：一种低雾度聚酯薄膜，为共挤膜，所述共挤膜包括第一表层和第二表层及夹设于所述第一表层和第二表层之间的基膜，所述基膜、第一表层和第二表层的材质均为PET，所述第一表层均匀分布有第一无机颗粒，所述第二表层均匀分布有第二无机颗粒，所述第一无机颗粒的粒径为10～120nm，所述第二无机颗粒的粒径为0.5～5μm。

第一无机颗粒和第二无机颗粒分别为高岭土、碳酸钙和二氧化硅中的一种或多种。进一步的，第一无机颗粒和第二无机颗粒的种类相同。

为了优化第一无机颗粒和第二无机颗粒的粒径，赋予薄膜良好的物理性能及加工性能，同时提高光线的透光率，实现低雾度，进一步的，第一无机颗粒的粒径为10～100nm，第二无机颗粒的粒径为1～3μm。更进一步的，第一无机颗粒的粒径为10～50nm，第二无机颗粒的粒径为1～2μm。

为了优化表层与基膜的层厚，进一步改善光线的透光率，实现低雾度，优选的技术方案为，所述第一表层和第二表层的层厚之和与所述基膜的层厚比为1：(8～16)，所述共挤膜的总膜厚为25～125μm。进一步的，共挤膜的总膜厚为25～75μm，第一表层和第二表层的层厚之和基膜的层厚比为1：(8～14)；共挤膜的总膜厚为76～125μm，第一表层和第二表层的层厚之和基膜的层厚比为1：(10～16)。更进一步的，共挤膜的总膜厚为76～125μm，第一表层和第二表层的层厚之和基膜的层厚比为1：(10～14)；共挤膜的总膜厚为76～125μm，第一表层和第二表层的层厚之和基膜的层厚比为1：(13～16)。

优选的技术方案为，所述第一表层的层厚与第二表层的层厚之比为(1～5):1。进一步的，第一表层的层厚与第二表层的层厚之比为(1.2～3):1。更进一步的，第一表层的层厚与第二表层的层厚之比为(1.2～2):1。

为了充分发挥第一无机颗粒和第二无机颗粒的作用，优选的技术方案为，所述第一表层中所述第一无机颗粒的加入量为基材质量的0.05％～1％；所述第二表层中所述第二无机颗粒的加入量为基材质量的0.05％～1％。进一步的，第一表层中第一无机颗粒的加入量为基材质量的0.05％～0.7％；第二表层中第二无机颗粒的加入量为基材质量的0.05％～0.6％。更进一步的，第一表层中第一无机颗粒的加入量为基材质量的0.15％～0.5％；第二表层中第二无机颗粒的加入量为基材质量的0.1％～0.3％。

为了提高第一无机颗粒和第二无机颗粒的分散性，提高光线的透光率，实现低雾度，优选的技术方案为，所述第一无机颗粒和第二无机颗粒均为偶联剂表面改性二氧化硅。