[发明专利]一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法

权利要求书

1.一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1，将基片放入真空腔室内，同时放入金属铂靶材，通过石英晶振标定校准沉积速率，在室温条件下将金属铂沉积在基片上；

步骤S2，将步骤S1所得基片从真空腔内取出，放入化学气相沉积炉中，在沉积炉中放置适量高纯度碲单质，将炉内抽至真空后通入载气；

步骤S3，设定沉积炉的退火温度、时间条件，对步骤S2所得基片进行退火处理。

步骤S4，退火结束后停止通入载气，从沉积炉中取出基片，二碲化铂制备完成。

2.如权利要求1所述的一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法，其特征在于，所述步骤S1中基片为硅片或蓝宝石片。

3.如权利要求1所述的一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法，其特征在于，所述步骤S1中将金属铂沉积在基片上所采用的方法为磁控溅射法或脉冲激光沉积法。

4.如权利要求1所述的一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法，其特征在于，所述步骤S2中载气为氢氩混合气，载气流量为200-300sccm。

5.如权利要求1所述的一种大尺寸二碲化铂的化学气相沉积制备方法，其特征在于，所述步骤S3中退火处理操作为：从室温加热至400℃退火温度，根据金属铂的沉积厚度不同，设定保温时长为20-90min，退火结束后将基片自然冷却降至室温。