[发明专利]具有阵列式反射单元的光学成像器件的制备方法有效

专利信息
申请号: 202210392296.0 申请日: 2022-04-15
公开(公告)号: CN114488563B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 刘楠;莫家豪 申请(专利权)人: 北京中建慧能科技有限公司
主分类号: G02B30/35 分类号: G02B30/35
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 何家鹏;高莺然
地址: 101599 北京市密云区鼓*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 阵列 反射 单元 光学 成像 器件 制备 方法
【说明书】:

本申请实施例提供一种具有阵列式反射单元的光学成像器件的制备方法,包括:将透光片的其中一个面设置为反射面,将一个透光片的透光面与另一个透光片的反射面通过胶水粘接;重复上述过程,直至多个透光片叠合成具有预设高度的层叠体;将层叠体沿垂直于反射面的方向切割为多个厚度一致的层叠片;将一部分层叠片平铺在一个平面上,利用胶水并通过“螺旋拼接”的方式将平铺于该平面上的各层叠片按照反射面朝向一致的方式拼接,形成第一镜片;按同样方法形成第二镜片;将第一镜片和第二镜片按照反射面正交的方式叠合,并用胶水粘接得到复合镜片。该方法所得的第一镜片和第二镜片的各层反射面之间共面,可光学成像器件的成像效果。

技术领域

本申请涉及空间立体成像技术领域,特别是涉及一种具有阵列式反射单元的光学成像器件的制备方法。

背景技术

现有技术中,空间立体成像技术主要采用垂直的两个镜面将光线按照反射定律进行两次反射,光线经过相互垂直的两个镜面的两次反射,使得反射光线在空中重新汇聚成像。该正交镜面结构能够反射点光源、线光源或面光源,且反射后光线在空中汇聚后仍然是点光源、线光源、面光源,这一特殊的光路反射效果使得空中成像技术走向了实际应用。但是,目前采用正交反射镜面的光学成像元件的空中成像效果不佳,不仅影响用户体验,还对应用场景提出了更高的要求,导致空间立体成像技术的商业推广和大规模应用受到了极大的制约。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种具有阵列式反射单元的光学成像器件的制备方法,以提高光学成像器件的空中成像效果。具体技术方案如下:

本申请实施例提出了一种具有阵列式反射单元的光学成像器件的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:

将透光片的其中一个面设置为反射面,将一个所述透光片的透光面与另一个所述透光片的所述反射面通过胶水粘接;

重复上述过程,直至使多个所述透光片叠合成具有预设高度的层叠体;

将所述层叠体沿垂直于所述反射面的方向切割为多个厚度一致的层叠片;

将一部分层叠片平铺在一个平面上,利用胶水并通过“螺旋拼接”的方式将平铺于该平面上的各层叠片按照反射面朝向一致的方式拼接在一起,形成具有多个反射面的第一镜片;

将另一部分层叠片平铺在一个平面上,利用胶水并通过“螺旋拼接”的方式将平铺于该平面上的各层叠片按照反射面朝向一致的方式拼接在一起,形成具有多个反射面的第二镜片;

将所述第一镜片和所述第二镜片按照所述反射面正交的方式进行叠合,并用胶水将两个所述第一镜片和所述第二镜片粘接,得到复合镜片。

在本申请的一些实施例中,所述层叠片螺旋拼接的步骤为:以一个所述层叠片为第一基准片,将多个所述层叠片沿顺时针或逆时针方向依次与所述第一基准片的各个侧面分别粘接形成方形的第二基准片,所述第二基准片的外边缘保持平直,多个所述层叠片沿顺时针或逆时针方向依次与所述第二基准片的各个侧面分别粘接形成方形的第三基准片,所述第三基准片的外边缘保持平直,以此类推,直至第N基准片的尺寸达到所述第一镜片或所述第二镜片尺寸为止。

在本申请的一些实施例中,在形成所述层叠体的步骤之后,还包括:沿叠合方向,将位于所述层叠体的顶部或底部的一个所述透光面加工成反射面。

在本申请的一些实施例中,将一个所述透光片的透光面与另一个所述透光片的所述反射面通过胶水粘接的步骤,包括:在一个透光片的透光面上按照预定图案涂覆胶水;将另一个透光片的反射面与所述一个透光片的透光面贴合;对粘贴在一起的所述一个透光片和所述另一个透光片进行重压,以使胶水扩散。

在本申请的一些实施例中,在一个透光片的透光面上按照预定图案涂覆胶水的步骤,包括:在一个透光片的透光面上涂覆胶水,所涂覆的胶水形成 “X”形、“十”字形或“米”字形。

在本申请的一些实施例中,在一个透光片的透光面上按照预定图案涂覆胶水的步骤之前,还包括:将直径相等的多个透明的支撑球混入胶水中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中建慧能科技有限公司,未经北京中建慧能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210392296.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top