[发明专利]一种匀胶喷嘴保湿装置及匀胶设备

说明书

本发明提供了一种匀胶喷嘴保湿装置及匀胶设备，该匀胶喷嘴保湿装置包括盖体，设置于盖体下方且具中空结构的盒体，盖体形成供匀胶喷嘴垂直插入的插入孔；盒体内置竖直布置的溢流板，以通过溢流板将盒体的内部腔体划分为储液腔与保湿腔，盒体的侧部设置供保湿液流入储液腔的第一通孔；匀胶喷嘴插入所述插入孔，以闭合保湿腔与储液腔，第一通孔沿竖直方向的高度位于储液腔中的保湿液所形成的最高液位上方。在本申请中，通过呈封闭状态的保湿腔中由储液腔所容置的保湿液因挥发所形成的保湿气氛对匀胶喷嘴予以保湿，由此不仅有效地防止了胶嘴暴露于空气中因光刻胶固化而发生堵塞胶嘴的现象，确保了匀胶制程连续且可靠地予以执行。

技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种匀胶喷嘴保湿装置及匀胶设备。

背景技术

匀胶设备是在高速旋转的基片上滴注光刻胶，以在离心力的作用下使光刻胶均匀地涂覆在基片(例如晶圆)上的一种半导体设备。光刻胶由溶剂、感光剂和树脂构成，溶剂在空气中易挥发，感光剂和树脂会因溶剂的挥发在匀胶设备的喷口(即胶嘴)处固化形成结块，结块的产生将严重影响匀胶设备的涂覆效果，因此需要对胶嘴予以保湿，以确保下次吐出光刻胶时保持畅通。

在现有技术中，通常采用将胶嘴浸没在含有持续流动光刻胶的容器中，以防止胶嘴发生固化。然而，该现有技术存在光刻胶浪费的缺陷。同时，胶嘴在完成一定次数的吐胶操作后，胶嘴周围可能会粘附脏污，因此需要对胶嘴予以清洗。然而对内部充满光刻胶的胶嘴进行清洗的过程不仅会导致光刻胶的浪费，还会在一定程度上增加匀胶设备的制造及使用成本。

有鉴于此，有必要对现有技术中的匀胶设备中所包含的对匀胶喷嘴予以保湿的装置予以改进，以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于揭示一种匀胶喷嘴保湿装置及匀胶设备，用以实现对匀胶工艺所使用的匀胶喷嘴进行保湿，以防止胶嘴暴露于空气中因光刻胶固化而发生堵塞胶嘴的现象，并实现对胶嘴予以清洗与干燥，从而确保匀胶制程连续且可靠地予以执行。

为实现上述发明目的之一，本发明提供了一种匀胶喷嘴保湿装置，包括：

盖体，设置于所述盖体下方且具中空结构的盒体，所述盖体形成供匀胶喷嘴垂直插入的插入孔；

所述盒体内置竖直布置的溢流板，以通过所述溢流板将所述盒体的内部腔体划分为储液腔与保湿腔，所述盒体的侧部设置供保湿液流入储液腔的第一通孔；

所述匀胶喷嘴插入所述插入孔，以闭合所述保湿腔与储液腔，所述第一通孔沿竖直方向的高度位于所述储液腔中的保湿液所形成的最高液位上方。

作为本发明的进一步改进，所述盖体形成收容匀胶喷嘴的收容腔，所述收容腔形成于保湿腔上方并与所述保湿腔相互连通，所述收容腔的体积小于保湿腔的体积。

作为本发明的进一步改进，所述盖体形成环形气路及环形液路，所述收容腔的周向侧壁开设上下设置的环形布置的若干喷气孔与环形布置的若干喷液孔，所述喷气孔与环形气路连通，所述喷液孔与环形液路连通，所述环形气路形成延伸至盖体外部的第二通孔，所述环形液路形成延伸至盖体外部的第三通孔。

作为本发明的进一步改进，所述喷气孔与喷液孔对称排列并形成于所述收容腔的两侧。

作为本发明的进一步改进，所述盖体形成倾斜布置并连接所述环形气路与喷气孔的喷气通道，盖体形成水平布置并连接所述环形液路与喷液孔的喷液通道。

作为本发明的进一步改进，盖体设置嵌设入所述第一通孔的第一接头，嵌设入所述第二通孔的第二接头，以及嵌设入所述第三通孔的第三接头。

作为本发明的进一步改进，还包括：围合所述盒体的托架，所述托架与盒体活动嵌设。

作为本发明的进一步改进，所述保湿腔的底部形成供保湿液排出盒体的排废孔；