[发明专利]一种复合防雾膜及其制备方法

说明书

一种复合防雾膜及其制备方法，其中复合防雾膜包括：衬底层；位于所述衬底层上的致密膜；位于所述致密膜背离所述衬底层一侧表面的纳米柱阵列层，所述纳米柱阵列层包括若干间隔的纳米柱。所述复合防雾膜可同时兼顾防雾效果好、防雾持久、亲水性高、高透光性、耐腐蚀性与稳定性强。

技术领域

本发明涉及防雾表面和微纳米制造技术领域，具体涉及一种复合防雾膜及其制备方法。

背景技术

防雾膜在工业生产和日常生活中有着广泛的用途，多应用于汽车玻璃、反光镜、浴室、鱼缸、冷藏冰柜、护目镜、激光防护镜、工厂机电、化学或生物防护面具、医学等诸多领域，然而雾化问题给人们的工作和生活带来诸多不便，现有技术中的防雾膜无法同时兼顾防雾效果好、防雾持久、亲水性高、高透光性、耐腐蚀性与稳定性强的优点，因此，现有技术中的防雾膜有待改进。

发明内容

因此，本发明要解决的技术问题在于克服现有技术中的防雾膜无法同时兼顾防雾效果好、防雾持久、亲水性高、高透光性、耐腐蚀性与稳定性强的优点，从而提供一种复合防雾膜及其制备方法。

本发明提供一种复合防雾膜，包括：衬底层；位于所述衬底层上的致密膜；位于所述致密膜背离所述衬底层一侧表面的纳米柱阵列层，所述纳米柱阵列层包括若干间隔的纳米柱。

可选的，所述致密膜的厚度为65nm－75nm。

可选的，所述致密膜的材料为二氧化钛或二氧化硅；或者，所述致密膜的材料为二氧化钛和二氧化硅的混合物。

可选的，相邻的所述纳米柱之间的间距为10nm－20nm，所述纳米柱的高度为90nm－100nm。

可选的，所述纳米柱阵列层的材料为二氧化钛；或者，所述纳米柱阵列层的材料为二氧化钛和二氧化硅的混合物。

可选的，所述致密膜的材料和所述纳米柱阵列层的材料相同。

可选的，还包括：复合减反膜层，所述复合减反膜层位于所述衬底层与所述致密膜之间；所述复合减反膜层包括至少一个减反射单元层，所述减反射单元层包括在垂直于所述衬底层的表面的方向上层叠的第一减反膜层和第二减反膜层，所述第一减反膜层的折射率大于所述第二减反膜层的折射率；所述减反射单元层中，所述第一减反膜层至所述衬底层的距离小于所述第二减反膜层至所述衬底层的距离。

可选的，所述第一减反膜层的折射率范围为1.9－2.4，所述第二减反膜层的折射率范围为1.33－1.5。

可选的，所述第一减反膜层的材料包括：钛酸镧、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、氧化铈、二氧化锆、二氧化铪或者五氧化二铌；所述第二减反膜层的材料包括：氟化镁或者二氧化硅。

可选的，各所述第一减反膜层的厚度为10nm－100nm；各所述第二减反膜层的厚度为10nm－100nm。

本发明还提供一种复合防雾膜的制备方法，包括：提供若干衬底层：在所述衬底层上形成致密膜；在所述致密膜背离所述衬底层一侧表面形成纳米柱阵列层，所述纳米柱阵列层包括若干间隔的纳米柱。

可选的，形成所述致密膜的工艺包括离子源辅助电子束蒸发沉积法。

可选的，所述致密膜的蒸镀速率为0.08nm/s－0.12nm/s。

可选的，形成所述致密膜采用的离子源辅助电子束蒸发沉积法的参数包括：离子源的阳极电压为180V－220V，离子源的电流为4.8A－5.2A；采用气体包括氧气和氩气，所述氧气的流量为45sccm－55sccm，所述氩气的流量为 15sccm－25sccm；对所述衬底层的加热温度为280℃－320℃，腔室内的真空度为 7.8×10^－4Pa－8.2×10^－4Pa。