[发明专利]一种基于空角一致性光场抠图方法及装置在审
申请号: | 202210404965.1 | 申请日: | 2022-04-18 |
公开(公告)号: | CN114742845A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 刘畅;何迪;刘天艺;邱钧 | 申请(专利权)人: | 北京信息科技大学 |
主分类号: | G06T7/11 | 分类号: | G06T7/11;G06T7/194;G06T7/50 |
代理公司: | 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 | 代理人: | 赵立军 |
地址: | 100192 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 一致性 光场抠图 方法 装置 | ||
1.一种基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,包括:
步骤1,提取光场数据的中心子孔径图像;
步骤2,计算光场数据的视差图和光场数据中心子孔径图像alpha图;
步骤3,对中心子孔径图像alpha图进行传播,获取光场alpha图;
步骤4,通过式(1)提供在频域获取的空角一致性评价指标F-cons,对光场alpha图中的空角一致性进行评价:指标F-cons取值范围在(0-1),指标F-cons越大,代表支集所占范围越小,光场数据空角一致性越好,反之越差;
式中:
式中,L′(Ωu,Ωv,Ωx,Ωy)为频谱图L(Ωu,Ωv,Ωx,Ωy)通过二值化后统计频谱图,ε为一个较小的数,M为频谱图整体像素的个数,Ωu、Ωv、Ωx、Ωy分别为光场频谱图的坐标轴。
2.如权利要求1所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤2中的视差图disp(x,y)的计算公式为式(3):
disp(x,y)=F/Z(x,y)+F (3)
式中,F为相机的焦距,Z(x,y)为场景的深度图。
3.如权利要求1或2所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤2中的中心子孔径图像alpha图的获取方法具体包括:
步骤21,将视差图disp(x,y)中任意像素i的置信度qi设置为式(4):
式中,pi为视差图disp(x,y)中任意像素i的视差值,D=max(disp(x,y))为视差图中的最大值,d=min(disp(x,y))为视差图中的最小值;
步骤22,设置置信度阈值t1和t2,当置信度qi大于t1时,则该区域属于前景,当置信度qi小于t2时,则该区域属于背景,其他区域为三分图中不确定的区域,则获得式(5)描述的三分图:
步骤23,将所述三分图转化为I1和I2,I1中前景和背景标记处像素为1,其余地方像素值为0,将I1转化为稀疏化对角矩阵即为Ds,I2中前景标记处像素值为1,其余像素值为0,将其转化为列向量即为bs:
步骤24,通过式(8)对中心子孔径图像的alpha图进行求解:
α=λ(L+λ)-1bs (8)
式中,λ为标记的权重系数,L为抠图的拉普拉斯矩阵。
4.如权利要求3所述的基于空角一致性光场抠图评价方法,其特征在于,步骤3,通过式(9)提供的光场alpha图传播模型,对中心子孔径图像alpha图进行传播,获取光场alpha图alphau,v(x,y);
式中,为中心视点(u0,v0)下子孔径图像对应的alpha图,disp(x,y)为中心子孔径图像中像点(x,y)对应的视差,Δu、Δv分别为任意视点(u,v)与中心视点(u0,v0)在u、v方向上的距离。
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