[发明专利]一种具有强穿通的非对称快速晶闸管在审
申请号: | 202210421370.7 | 申请日: | 2022-04-21 |
公开(公告)号: | CN114759087A | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 张磊;范晓波;王国卫;胡茜;党敏青;刘世辉;周哲 | 申请(专利权)人: | 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/167 |
代理公司: | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人: | 彭冬英 |
地址: | 710077 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 强穿通 对称 快速 晶闸管 | ||
1.一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:从上往下依次设置有阴极AL层(10)、阴极P区(22),N-基区(30),阳极N缓冲层(42),阳极高浓度P+区(41)和阳极AL层(50),在阴极AL层(10)与阴极P区(22)之间设有阴极高浓度N+区(20)和P+区(21)。
2.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述正向阻断电场在阳极N缓冲层(42)中截止,所述反向阻断电场穿通过阳极N缓冲层(42)在N-基区(30)中截止,所述正向阻断电压与反向阻断电压是非对称的。
3.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述阴极N+区(20)深度为10~20μm,掺杂浓度为1×1019~1×1020cm-3。
4.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述阴极P+区(21)深度为10~20μm,掺杂浓度为1×1018~1×1019cm-3。
5.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述阴极P区(22)深度为45~140μm,掺杂浓度为1×1014~1×1017cm-3。
6.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述N-基区(23)厚度为200~500μm,掺杂浓度为5×1012~1×1014cm-3。
7.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述阳极N缓冲层(42)掺杂浓度为1×1014~1×1016,结深为10~30μm;。
8.根据权利要求1所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:所述阳极P+区(41)深度为10~20μm,掺杂浓度为1×1018~1×1019cm-3。
9.根据权利要求7所述的一种具有强穿通的非对称快速晶闸管,其特征在于:当反向阻断电压为100~500V时,对应的阳极N缓冲层(42)浓度为1×1015~1×1016,深度为10~20μm;反向阻断电压为500~2000V时,对应的阳极N缓冲层(42)浓度为1×1014~1×1015,深度为20~30μm。
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