[发明专利]一种立方氮化硼复合片的抛光方法有效
| 申请号： | 202210428207.3 | 申请日： | 2022-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN114619298B | 公开（公告）日： | 2023-03-14 |
| 发明（设计）人： | 莫培程;陈家荣;陈超;胡乔帆 | 申请（专利权）人： | 中国有色桂林矿产地质研究院有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 霍苗 |
| 地址： | 541004 广西*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 立方 氮化 复合 抛光 方法 | ||
1.一种立方氮化硼复合片的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：
以金刚石悬浮液为抛光液，利用电镀金刚石磨片对立方氮化硼复合片的待抛光面进行一级抛光，得到一级抛光面；
以碳化硼悬浮液为抛光液，利用电镀金刚石磨片对所述一级抛光面进行二级抛光，得到二级抛光面；
以立方氮化硼悬浮液为抛光液，利用聚氨酯抛光垫对所述二级抛光面进行三级抛光；
所述金刚石悬浮液中的金刚石的粒度≤1μm；
所述碳化硼悬浮液中的碳化硼的粒度≤7μm；
所述立方氮化硼悬浮液中的立方氮化硼的粒度≤12μm。
2.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，进行所述一级抛光前，还包括对所述立方氮化硼复合片的待抛光面进行预处理；
所述预处理包括平磨处理或喷砂处理；
所述平磨处理的时间为3～7min；
所述喷砂处理的时间为2～5min。
3.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述电镀金刚石磨片的目数为800～1500目。
4.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述一级抛光的转速为800～1000rpm，时间为1～2h。
5.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述二级抛光的转速为800～1000rpm，时间为1～2h。
6.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述三级抛光的转速为800～1000rpm，时间为2～3h。
7.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述三级抛光得到的抛光面的表面粗糙度小于0.1μm。
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