[发明专利]一种离子迁移谱中双平行栅离子门的控制方法在审

专利信息
申请号: 202210430430.1 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN116631839A 公开(公告)日: 2023-08-22
发明(设计)人: 陈创;李海洋 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: H01J49/06 分类号: H01J49/06;H01J49/40
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子 迁移 谱中双 平行 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种离子迁移谱中双平行栅离子门的控制方法,所述离子迁移谱包括离子迁移管,离子迁移管由自左至右依次同轴放置的离子源(1)、电离区(2)、离子门(3)、迁移区(4)和离子接收极(5)构成,其中,电离区(2)和迁移区(4)分别为3个以上环状电极(6)与2个以上环状绝缘体(7)自左至右依次交替同轴叠合构成的圆柱状中空腔体,其特征在于:

离子门(3)位于左侧的电离区(2)和右侧迁移区(4)之间;自左至右,离子门(3)由环状第一门电极(31)、环状绝缘体(7)和环状第二门电极(32)依次同轴叠合构成,第一门电极(31)和第二门电极(32)的中部通孔内分别设有与门电极同轴的、可透过离子的圆片状金属栅网;

沿离子源(1)至离子接收极(5)方向,离子源(1)、环状电极(6)和离子接收极(5)上施加依次降低的直流电压,其中,电离区(2)内紧邻离子门(3)的环状电极(61)上施加电压V2,迁移区(4)内紧邻离子门(3)的环状电极(62)上施加电压V5,电压V2的电势高于电压V5的电势;

按照第一预设时间间隔t1、第二预设时间间隔t2、第三预设时间间隔t3依次于第一门电极(31)、第二门电极(32)上分别施加电压,于离子门控注入过程中,一体化实现离子预富集、离子无歧视门控注入和离子团时空压缩。

2.根据权利要求1所述的控制方法,其特征在于:

在第一预设时间间隔t1内,第一门电极(31)施加与环状电极(61)相同的电压V2,第二门电极(32)施加电压V1,电压V1的电势高于电压V2的电势,电压V2的电势高于电压V5的电势,电离区(2)内形成沿离子源(1)至离子接收极(5)方向强度逐渐降低的非均匀第一直流电场,离子门(3)内形成沿离子接收极(5)至离子源(1)方向的离子阻止电场,离子门(3)关闭,离子源(1)产生的离子流在第一直流电场的驱动下向着离子门(3)运动,离子流内离子数密度逐渐升高,并被截止于第一门电极(31)所在的平面处;

在第二预设时间间隔t2内,第一门电极(31)施加电压V3,第二门电极(32)施加电压V4,电压V1的电势高于电压V2的电势,电压V2的电势高于电压V3的电势,电压V3的电势高于电压V4的电势,电压V4的电势高于电压V5的电势,电离区(2)、迁移区(4)内分别形成沿离子源(1)至离子接收极(5)方向强度均匀的第二直流电场,第二直流电场的强度大于第一直流电场的强度,离子门(3)内形成沿离子源(1)至离子接收极(5)方向的离子注入电场,离子注入电场的强度远大于第二直流电场的强度,离子门(3)打开,电离区(2)紧邻第一门电极(31)区域内离子数密度升高的离子流被无歧视地注入迁移区(4)中形成离子团;

在第三预设时间间隔t3内,第一门电极(31)施加电压V2,第二门电极(32)施加电压V1,电压V1的电势高于电压V2的电势,电压V2的电势高于电压V3的电势,电压V3的电势高于电压V4的电势,电压V4的电势高于电压V5的电势,离子门(3)内形成沿离子接收极(5)至离子源(1)方向的离子阻止电场,离子门(3)关闭,电离区(2)中的离子流被截止在第一门电极(31)所在平面处,迁移区(4)内形成沿离子源(1)至离子接收极(5)方向电场强度逐渐降低的第三直流电场,第三直流电场的强度大于第二直流电场的强度,迁移区(4)内离子团在时间尺度和空间尺度上被同时压缩,并在第三直流电场的驱动下依照离子迁移率K差异先后被离子接收极(5)接收,形成兼具高灵敏度和高分辨能力的离子迁移谱图。

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