[发明专利]一种整体现浇地面结构及地面施工方法在审

专利信息
申请号: 202210432060.5 申请日: 2022-04-22
公开(公告)号: CN114892916A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 罗汉斌;张传波;黄波;喻晓;姚华伟;余文彬;田聪;夏彬;郏现高;李思;吕志雄;任路阳 申请(专利权)人: 中铁第四勘察设计院集团有限公司
主分类号: E04F15/12 分类号: E04F15/12;E04F15/14;E04F21/24;B24B1/00;B24B7/18;C04B28/04
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 何娜;蒋雅洁
地址: 430060 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 整体 浇地 结构 地面 施工 方法
【权利要求书】:

1.一种整体现浇地面结构,其特征在于,包括:

找平层;

复合层,铺设于所述找平层上,所述复合层由包含复合材料抗裂砂浆剂的抗裂硅晶砂浆浇筑;

其中,所述抗裂硅晶砂浆包括以下质量份数的组份:

硅酸盐水泥14至17份;

中粗河沙28至32份;

石粒45至50份;

复合材料抗裂砂浆剂1.5至2.2份;

抗裂纤维0.04至0.07份;

水4至7份。

2.根据权利要求1所述的整体现浇地面结构,其特征在于,所述复合层包括基层和面层,所述基层设置于所述找平层和所述面层之间。

3.根据权利要求2所述的整体现浇地面结构,其特征在于,所述基层内设置有单层双向钢筋网。

4.根据权利要求3所述的整体现浇地面结构,其特征在于,基层的厚度为110至130毫米。

5.根据权利要求4所述的整体现浇地面结构,其特征在于,还包括防水层,所述防水层设置于所述基层和所述找平层之间。

6.根据权利要求2所述的整体现浇地面结构,其特征在于,所述面层的厚度为8至12毫米。

7.根据权利要求2所述的整体现浇地面结构,其特征在于,还包括分隔条,所述分隔条将所述面层分隔为多个面层块。

8.根据权利要求1所述的整体现浇地面结构,其特征在于,所述找平层的厚度为50至60毫米。

9.一种地面施工方法,其特征在于,包括以下主要步骤:

铺设找平层,并对找平层表面进行研磨处理;

在所述找平层上覆盖防水层;

在所述防水层上浇筑含有复合材料抗裂砂浆剂的抗裂硅晶砂浆以形成基层;

在所述基层上镶嵌分隔条;

在所述基层上铺设含有复合材料抗裂砂浆剂的抗裂硅晶砂浆以形成面层;

对所述面层进行磨光作业;

其中,所述抗裂硅晶砂浆包括以下质量份数的组份:

硅酸盐水泥14至17份;

中粗河沙28至32份;

石粒45至50份;

复合材料抗裂砂浆剂1.5至2.2份;

抗裂纤维0.04至0.07份;

水4至7份。

10.根据权利要求9所述的地面施工方法,其特征在于,在所述防水层上浇筑含有所述复合材料抗裂砂浆剂的所述抗裂硅晶砂浆以形成所述基层的步骤中进行消泡处理。

11.根据权利要求9所述的地面施工方法,其特征在于,在所述基层上铺设含有所述复合材料抗裂砂浆剂的所述抗裂硅晶砂浆以形成所述面层和对所述面层进行磨光作业之间的时间间隔为24小时。

12.根据权利要求11所述的地面施工方法,其特征在于,对所述面层进行所述磨光作业的步骤包括以下主要步骤:

粗磨开面;

一次研磨,使所述面层平整、粗糙度均匀,并使所述石粒面外露;

修孔补浆;

二次研磨,将补浆材料打磨干净,以使所述面层表面透彻清晰,滑润细腻;

三次研磨,使所述石粒均匀显露,使所述面层表面平整光滑,无砂眼细孔;

面层抛光。

13.根据权利要求12所述的地面施工方法,其特征在于,所述粗磨开面使用30目金刚石磨片;所述一次研磨使用50目树脂磨片;所述二次研磨使用500目树脂磨片;所述三次研磨使用至少800目的磨片。

14.根据权利要求12所述的地面施工方法,其特征在于,所述面层抛光的步骤包括以下主要步骤:

将研磨后的所述面层表面清洗干净并晾干;

在所述面层上喷洒抛光剂,并涂抹均匀;

使用抛光机配合兽毛抛光垫,对所述面层进行抛光。

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