[发明专利]超透镜及其制作方法和显示装置在审
申请号: | 202210442747.7 | 申请日: | 2022-04-25 |
公开(公告)号: | CN114859607A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 周健 | 申请(专利权)人: | 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02B3/12 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张娜 |
地址: | 100176 北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种超透镜,其特征在于,包括:
第一基板;
第一电极层,所述第一电极层设置在所述第一基板的一侧;
多个介质柱,多个所述介质柱间隔设置在所述第一电极层远离所述第一基板的一侧,在沿所述第一基板的中心向所述第一基板的边缘的延伸方向上,所述介质柱的宽度逐渐减小;
第二电极层,所述第二电极层设置在所述介质柱远离所述第一基板的一侧;
第一液晶,所述第一液晶位于所述第一电极层远离所述第一基板的一侧,且填充在多个所述介质柱之间的间隙中;
第二基板,所述第二基板设置在所述第二电极层远离所述第一基板的一侧。
2.根据权利要求1所述的超透镜,其特征在于,进一步包括:
第一配向膜,所述第一配向膜设置在所述第一液晶和所述第二电极层之间。
3.根据权利要求1所述的超透镜,其特征在于,进一步包括:
第三电极层,所述第三电极层设置在所述第二电极层和所述第一液晶之间;
第二液晶,所述第二液晶位于所述第二电极层和所述第三电极层之间。
4.根据权利要求3所述的超透镜,其特征在于,进一步包括:
第二配向膜,所述第二配向膜设置在所述第二液晶和所述第二电极层之间。
5.根据权利要求3所述的超透镜,其特征在于,进一步包括多个间隔设置的隔离柱,所述隔离柱设置所述第二电极层和所述第三电极层之间。
6.根据权利要求1~5任一项所述的超透镜,其特征在于,所述介质柱满足以下条件的至少之一:
所述介质柱的宽度为50nm~200nm;
所述介质柱的高度为450nm~800nm;
所述介质柱的材质包括氮化硅、氧化钛和氮化镓中的至少之一。
7.一种制作超透镜的方法,其特征在于,包括:
提供第一基板,并在所述第一基板的一侧形成第一电极层;
在第一电极层远离所述第一基板的一侧形成多个间隔设置的介质柱,在沿所述第一基板的中心向所述第一基板的边缘的延伸方向上,所述介质柱的宽度逐渐减小;
提供第二基板,并在所述第二基板的一侧形成第二电极层;
将所述第一基板和所述第二基板对盒,使所述第一电极层位于所述第一基板和所述第二电极层之间,且所述第二电极层位于所述第二基板靠近所述第一基板的一侧;
在所述第一电极层和所述第二电极层之间注入第一液晶,并使所述第一液晶填充在多个所述介质柱之间的间隙中。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在将所述第一基板和所述第二基板对盒之前,进一步包括:在所述第二电极层远离所述第二基板的一侧形成第一配向膜。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,进一步包括:
提供第三基板,并在所述第三基板的一侧形成第三电极层;
将设置有所述第三电极层的所述第三基板与设置有所述介质柱的所述第一基板进行对盒;
对所述第三基板进行刻蚀以除去所述第三基板;
将设置有所述第二电极层的所述第二基板与设置有所述第三电极层的所述第一基板进行对盒;
在所述第二电极层和所述第三电极层之间注入第二液晶。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,在将所述第一基板和所述第三基板对盒之前,进一步包括:在所述第三电极层远离所述第三基板的一侧形成第二配向膜。
11.根据权利要求9或10所述的方法,其特征在于,在将设置有所述第二电极层的所述第二基板与设置有所述第三电极层的所述第一基板进行对盒之前,进一步包括:在所述第二电极层远离所述第二基板的一侧形成多个间隔设置的隔离柱。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~6任一项所述的超透镜或利用权利要求7~11任一项所述的方法制作的超透镜。
13.根据权利要求12所述的显示装置,其特征在于,进一步包括激光控制系统,所述激光控制系统与所述超透镜结合,进行实时位置信息和激光信息的同步。
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