[发明专利]一种高精度水柱测偏方法、系统、设备及计算机介质在审
申请号: | 202210457265.9 | 申请日: | 2022-04-27 |
公开(公告)号: | CN114812274A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 伍光新;沈学勇;姚元;邢文革;祁琳琳 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十四研究所 |
主分类号: | F41G3/32 | 分类号: | F41G3/32;G01S13/66;G01S7/41 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 严梦婷;高娇阳 |
地址: | 210039 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高精度 水柱 偏方 系统 设备 计算机 介质 | ||
1.一种高精度水柱测偏方法,其特征在于,包括以下步骤:
对目标进行跟踪的同时,在目标跟踪波门的前后限定范围内布置限定多个水柱检测波门;
采用宽带信号和同时多波束技术对水柱以及目标进行扫描,形成高分辨率二维图像,得到多个水柱落点位置和时间;所述目标由多个散射中心组成;
根据多个水柱落点位置定位水柱中心,得到水柱中心相对目标的各个散射中心的方位距离偏差;所述多个水柱只有一个水柱中心。
2.根据权利要求1所述的高精度水柱测偏方法,其特征在于,还包括:
根据水柱落点位置和目标的位置得到的偏差结果以及水柱出现的时间顺序,编制多目标批次,完成多目标时序控制以及参数处理。
3.根据权利要求2所述的高精度水柱测偏方法,其特征在于,还包括:
当水柱的信噪比低于门限设定值或水柱持续时间超过相应设定值时,则撤销对其跟踪。
4.根据权利要求3所述的高精度水柱测偏方法,其特征在于,所述目标为舰船,所述根据目标的各个散射中心获得目标的简单模型,即选取尖锐突起、折角、腔体、以及表面边缘的电磁散射中心作为目标的散射中心从而获得目标的简单模型。
5.根据权利要求4所述的高精度水柱测偏方法,其特征在于,所述方位距离偏差中的最小值为目标上的距离水柱中心最近的散射中心与水柱中心之间的距离,最大值为船头或船尾距离水柱中心的距离。
6.根据权利要求5所述的高精度水柱测偏方法,其特征在于,目标跟踪波门前后限定范围具体为以目标为中心,距离偏差为-1km~1km、方位偏差为-3°~+3°的区域。
7.一种高精度水柱测偏系统,其特征在于,所述系统包括目标跟踪模块和信号处理模块,所述目标跟踪模块根据接收的指示对目标和水柱进行跟踪,并得到水柱和目标的各个散射中心之间的方位距离偏差,将方位距离偏差发送给信号处理模块;系统的信号处理模块根据方位距离偏差以及水柱出现的时间顺序,编制多目标批次,完成多目标时序控制以及参数处理;所述系统基于权利要求1-6的任一方法实现。
8.一种高精度水柱测偏设备,其特征在于,包括:
存储器,用于存储计算机程序;
处理器,用于执行计算机程序时实现权利要求1-6的任一项所述的高精度水柱测偏方法的步骤。
9.一种计算机介质,其特征在于,所述计算机介质上存储有计算机程序,计算机程序被处理器执行是实现权利要求1-6的任一项所述的高精度水柱测偏方法的步骤。
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